进口微波去胶机是石英腔的微波等离子系统，可以安装到超净间墙上。该系列的微波等离子系统可以用于批处理，也可以作为单片处理，系统为计算机全自动控制的系统。典型工艺包含：大剂量离子注入后的光刻胶去除；干法刻蚀工艺的前处理或后处理；MEMS制造中的牺牲层去除。进口微波去胶机系统控制：PC,Windows,RS232,USB,Ethernet(也适用于远程控制)10.4”触摸屏、图形用户界面WindowsOffice兼容存储处理数据和错误信息，处理数据输出工艺参数图形曲线的监测自动或手...

热真空系统具有计算机控制、安全连锁，以及多级密码授权访问保护的功能。热真空系统可以用于超过24小时的圈子全自动热、冷循环情况下测试器件/样品，温度条件通过程序定义。该系统zui通常的应用之一是太空模拟。热真空系统腔体的大致尺寸为：直径24"，长度43"。带有一个16"x32"的滑动加热平，可以冷却到零下100摄氏度。热真空平台也可以加热到150摄氏度，具有高度的均匀度。在去边3cm后整个平台的温度均匀度可达/-1摄氏度。加热平台安装在滚轴上，可以方便拉出zui大到75%的长度...

进口掩模板清洗机是一款带有小占地面积的理想设备，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统，可以zui大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。进口掩模板清洗机技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的zui大化支持的清洗，同时保证在样片的损...

等离子刻蚀反应离子刻蚀一体机又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中zui常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。某种程度来讲，等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况。进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分。工件送入被真空...

NANO-CHINA那诺中国正式推出。我们将持续更新我们的产品资料，敬请关注。

那诺中国在化工仪器网正式落户，并建设相应的个性化NANOCHINA17。随着产品的陆续发布，那诺中国也正式展开了行业推广的步伐。

祝贺Nano-Master(那诺-马斯特)公司新近研发的LSC系列大型全自动分划板清洗机已在美国售出。该套系统作为带保护膜分划板无损清洗的系统的正式售出，代表了NANO-MASTER无损兆声清洗的技术在工业化量产上的真正成功，实现了计算机全自动控制、全自动上下载片、无损兆声清洗技术的结合。

2015年7月，湖北文理学院NRE-3500反应离子刻蚀/等离子刻蚀双功能系统顺利完成验收。