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单晶圆/掩模版兆声清洗机
SWC系列/LSC系列兆声清洗机
产品型号:SWC系列/LSC系列
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兆声清洗机:Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离,以及湿法刻蚀。该系统配套机械手,也可以升级为多系统的集成架构。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。
SWC系列/LSC系列硅片清洗机
产品型号:SWC系列/LSC系列
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硅片清洗机:Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。
SWC系列/LSC系列进口晶圆清洗机
产品型号:SWC系列/LSC系列
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进口晶圆清洗机:Nano-Master进口兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。
SWC-3000兆声晶圆(掩模版)清洗机
产品型号:
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SWC-3000兆声晶圆(掩模版)清洗机:Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。
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