• SWC-3000兆声晶圆(掩模版)清洗机:Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。
  • SWC-5000全自动兆声晶圆清洗机:Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及Z先进的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离,以及湿法刻蚀。该系统配套机械手,也可以升级为多系统的集成架构。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。
  • SWC-4000兆声晶圆(掩模版)清洗机:Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及Z先进的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离,以及湿法刻蚀。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。
  • SWC-3000兆声辅助光刻胶剥离系统:Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及Z先进的兆声清洗,以及兆声辅助的光刻胶剥离。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。
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