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进口晶圆清洗机
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进口晶圆清洗机概述:兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平,可以帮助用户获得干净的晶圆片和掩模版。
NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统,用于*进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片,包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到优化的清洗效果,兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面,通过分布能量的z大化支持z理想的清洗,同时保证在样片的损伤阈值范围内。
SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力,这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统,可以*节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力,提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。
进口晶圆清洗机应用:
带图案或不带图案的掩模版和晶圆片
Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗
CMP处理后的晶圆片清洗
晶圆框架上的切粒芯片清洗
等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗
带保护膜的分划版清洗
掩模版空白部位或接触部位清洗
X射线及极紫外掩模版清洗
光学镜头清洗
ITO涂覆的显示面板清洗
兆声辅助的剥离工
硅片和蓝宝石片清洗
带晶圆框架的芯片清洗
FSI清洗
硅片和蓝宝石片清洗
带晶圆框架的芯片清洗
显示平板,ITO涂层显示屏清洗
带图案及无图案掩模版清洗
带保护膜分划板的背面清洗
薄膜结构胶粘剂清洗
光刻胶涂覆/剥离和Piranha去胶
背面多晶去除
显影和其他刻蚀应用
选配项:
掩模版或晶圆片夹具
PVA软毛刷清洗(100RPM)
化学试剂清洗(CDU)
氮气离子发生器
CMP后的刷子清洗(可高达400RPM)
背面去离子水清洗和干燥
CO2注入,带DIW电阻率监测单元
用于DIW或hua'xue'shi'ji化学试剂的内嵌式加热器
化学液补满传感器
FM4910材料
25片casssette机械手自动上下片
型号:
SWC-3000台式单晶圆/掩模版清洗系统
SWC-4000立柜式单晶圆/掩模版清洗系统
SWC-5000带25片cassette机械手自动清洗
LSC-4000大基片清洗机
LSC-5000全自动清洗系统
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