• 产品名称:硅片清洗机

    产品型号:SWC系列/LSC系列

    产品报价:

    产品特点:硅片清洗机:Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。

    SWC系列/LSC系列硅片清洗机的详细资料:

    硅片清洗机概述:兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平,可以帮助用户获得干净的晶圆片和掩模版。

    NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统,用于先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片,包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到优化的清洗效果,兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面,通过分布能量的z大化支持z理想的清洗,同时保证在样片的损伤阈值范围内。

    SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力,这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统,可以z大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力,提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。

    硅片清洗机应用:

    • 带图案或不带图案的掩模版和晶圆片
    • Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗
    • CMP处理后的晶圆片清洗
    • 晶圆框架上的切粒芯片清洗
    • 等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗
    • 带保护膜的分划版清洗
    • 掩模版空白部位或接触部位清洗
    • X射线及极紫外掩模版清洗
    • 光学镜头清洗
    • ITO涂覆的显示面板清洗
    • 兆声辅助的剥离工
    • 硅片和蓝宝石片清洗
    • 带晶圆框架的芯片清洗
    • FSI清洗
    • 硅片和蓝宝石片清洗
    • 带晶圆框架的芯片清洗
    • 显示平板,ITO涂层显示屏清洗
    • 带图案及无图案掩模版清洗
    • 带保护膜分划板的背面清洗
    • 薄膜结构胶粘剂清洗
    • 光刻胶涂覆/剥离和Piranha去胶
    • 背面多晶去除
    • 显影和其他刻蚀应用

    硅片清洗机选配项:

    • 掩模版或晶圆片夹具
    • PVA软毛刷清洗(100RPM)
    • 化学试剂清洗(CDU)
    • 氮气离子发生器
    • CMP后的刷子清洗(可高达400RPM)
    • 背面去离子水清洗和干燥
    • CO2注入,带DIW电阻率监测单元
    • 用于DIW或hua'xue'shi'ji化学试剂的内嵌式加热器
    • 化学液补满传感器
    • FM4910材料
    • 25片casssette机械手自动上下片

     硅片清洗机型号:

    • SWC-3000台式单晶圆/掩模版清洗系统
    • SWC-4000立柜式单晶圆/掩模版清洗系统
    • SWC-5000带25片cassette机械手自动清洗
    • LSC-4000大基片清洗机
    • LSC-5000全自动清洗系统

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