• 既然是进口ALD设备,那么它有哪些与众不同之处?

    点击次数:22 发布时间:2021-01-13


        进口ALD设备原子层沉积是一项沉积薄膜的重要技术,具有广泛的应用。ALD原子层沉积可以满足膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积,这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响,所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性,可以提供优异的薄膜性能。ALD原子层工艺也可以实现到大基片上。

        进口ALD设备特点:

        占地面积小

        计算机控制,Labview软件全自动工艺控制

        360A厚的AL2O3膜,误差为±1A

        三维镀膜,接近100%的阶梯覆盖率

        设备集成安全气柜

        10mTorr的极限真空

        可支持6“,8”基片(升级支持12“,或定制更大尺寸)

        样品台可加热至400℃(可选加热到500℃)

        手动/自动上下载片可选

        支持多达7路的50ml的液态或固态前驱体瓶源

        进口ALD设备选配:

        下游式远程平面ICP源或中空阴极离子源,支持PEALD

        自动上下片,单片或25片cassette

        增加额外的液态qia前驱体或额外的fan'ying反应气路

        300l/sec的磁悬浮涡流分子泵,5*10-7Torr极限真空

        大尺寸的基片或fe粉末的沉积

        QCM原位膜厚监控系统
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