• 对MOCVD设备还感到非常陌生?看完这篇文章你就了解它了!

    点击次数:42 发布时间:2021-01-26


        NMC-4000(M)MOCVD设备概述:NANO-MASTER针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5x10-7Torr极限真空)、PC全自动控制,完全的安全互锁。

        目前,这项技术延伸到5个4"晶圆的立柜式独立批处理系统,该系统可以集成到集群配置中以满足高产量的要求。

        NMC-4000(M)MOCVD设备特点:

        台式系统

        10英寸不锈钢腔体

        带碰头气体分配器的射频等离子源

        自动调节

        4英寸基片夹、可加热到900°C

        5个带独立冷却/加热的起泡器

        加热气体管道

        附加流量控制器

        250升/秒涡轮分子泵组

        5×10-7托基准压

        电脑程序全自动驱动

        仪器模拟用户界面

        紧急按钮保护和安全互锁

        MOCVD设备选配:

        立式独立系统

        感应耦合等离子或微波等离子源

        14英寸电解抛光立方体腔体

        8英寸或12英寸基片夹

        6英寸可加热至700°C旋转基板台(4英寸可到950°C)

        附加的起泡器和MFC

        晶圆自动装载/卸载

        可兼容集群配置

        应用:

        3到5族半导体层

        蓝色发光二极管

        激光二极管

        紫外-可见光谱光电中的氮化铟纳米棒

        3D或2D材料中的二硫化钼、氮化硼、石墨烯
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