• NRE-4000(M)反应离子刻蚀:独立式RIE系统,淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品,不锈钢柜子以及13“的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2“的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持Z大到12”的晶圆片。腔体为超净设计,并且根据配套的真空泵可以达到10-6Torr或更小的极限真空。该系统系统可以在20mTorr到8Torr之间的真空
  • NIE-4000(R)RIBE反应离子束刻蚀:如铜和金等金属不含挥发性化合物,这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的。通常情况下,样品表面采用厚胶作为掩模层,刻蚀期间富有能量的离子流会使得基片和光刻胶过热。除非可以找到有效的方式消除热量,否则光刻胶将变得非常难以去除。
  • NRE-4000型RIE-PE刻蚀机:提供PC控制的PE刻蚀RIE刻蚀一体机,配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13“的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2“的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持Z大到12“的晶圆片。腔体为超净设计,真空泵可以达到10-6Torr或更小的极限真空。该系统系统可以在20mTorr到8Torr之间的真空下工作。
  • NRE-3500型RIE-PE刻蚀机:PC控制的RIE刻蚀PE刻蚀一体机,淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品,不锈钢柜子及13“的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2“的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持Z大到12“的晶圆片。腔体为超净设计,真空泵可以达到10-6Torr或更小的极限真空。可以在20mTorr到8Torr之间的真空下工作。
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