• NRE-3500型RIE-PE刻蚀机:PC控制的RIE刻蚀PE刻蚀一体机,淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品,不锈钢柜子及13“的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2“的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持Z大到12“的晶圆片。腔体为超净设计,真空泵可以达到10-6Torr或更小的极限真空。可以在20mTorr到8Torr之间的真空下工作。
  • NDR-4000(A)全自动DRIE深反应离子刻蚀:全自动上下载片,带低温晶圆片冷却和偏压样品台的深硅刻蚀系统,带8“ICP源。系统配套500L/S抽速的涡轮分子泵,可以使得工艺压力达到几mTorr的水平。在低温刻蚀的技术下,系统可以达到硅片的高深宽比刻蚀。
  • NRE-4000型RIE-PE刻蚀机:提供PC控制的PE刻蚀RIE刻蚀一体机,配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13“的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2“的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持Z大到12“的晶圆片。腔体为超净设计,真空泵可以达到10-6Torr或更小的极限真空。该系统系统可以在20mTorr到8Torr之间的真空下工作。
  • NRE-3500型RIE-PE刻蚀机:PC控制的RIE刻蚀PE刻蚀一体机,淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品,不锈钢柜子及13“的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2“的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持Z大到12“的晶圆片。腔体为超净设计,真空泵可以达到10-6Torr或更小的极限真空。可以在20mTorr到8Torr之间的真空下工作。
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