ICP等离子刻蚀
NRE-4000(ICPA)全自动ICP刻蚀系统概述:自动上下载片,是带ICP等离子源和偏压样品台的高速刻蚀系统,具有高速率、低损伤、高深宽比的刻蚀能力。可实现范围广泛的刻蚀工艺,包括刻蚀III-V化合物(如GaAs,InP,GaN,InSb)、II-VI化合物、介质材料、玻璃、石英、金属,以及硅和硅的化合物(如SiO2、Si3N4、SiC、SiGe)等。
NRE-4000(ICPA)全自动ICP刻蚀系统主要特点:
配置内容:
应用领域:
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