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ICP刻蚀机
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ICP等离子刻蚀机
NRE-4000(ICPM)ICP刻蚀机概述:是带ICP等离子源和偏压样品台的高速刻蚀系统,系统可以达到高速率、低损伤、高深宽比的刻蚀效果。可实现范围广泛的刻蚀工艺,包括刻蚀III-V化合物(如GaAs,InP,GaN,InSb)、II-VI化合物、介质材料、玻璃、石英、金属,以及硅和硅的化合物(如SiO2、Si3N4、SiC、SiGe)等。
NRE-4000(ICPM)ICP刻蚀机主要特点:
NRE-4000(ICPM)配置内容:
NRE-4000(ICPM)应用领域: