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  • 2025-01-19

    全自动磁控溅射系统是一种用于薄膜沉积技术的设备,广泛应用于半导体、光电、光学薄膜、传感器等领域。该系统利用高能离子束轰击靶材,通过物质溅射的方式,在基材表面沉积薄膜。全自动磁控溅射系统的基本原理:1.气体离子化:在高真空环境中,惰性气体(如氩气)被导入腔体,施加高频电压形成等离子体,使气体部分离子化。2.离子加速:离子被电场加速并朝向靶材运动。3.靶材溅射:高速运动的离子与靶材发生碰撞,使靶材表面原子获得足够的能量,从而逸出表面,形成溅射物质。4.薄膜沉积:溅射出的原子在腔体...

  • 2024-12-26

    磁控溅射是一种常用的物理气相沉积(PVD)技术,广泛应用于薄膜材料的制备。其基本原理是利用高能粒子轰击靶材,导致靶材原子或分子逸出,并在基材表面沉积形成薄膜。该过程通常在真空环境中进行,以确保沉积过程中的纯净和无污染。全自动磁控溅射系统的部分组成:1.真空腔体:作为整个溅射过程的核心部分,真空腔体配备有高效的抽真空系统,确保低压环境。2.靶材和基材架:靶材通常采用高纯度的金属或合金,根据不同的沉积需求选择;基材架则负责固定待涂覆的基材,确保在溅射过程中的稳定性。3.磁场系统:...

  • 2024-12-03

    飞行时间二次离子质谱法(TOF-SIMS)是一种高度灵敏的表面分析技术,可揭示样品顶部几个原子层的质谱数据。Kore很荣幸成为InnoviaFilms的TOF-SIMS供应商,InnoviaFilms是一家材料科学公司,为包括标签、包装以及钱币在内的各种产品生产基础膜。InnoviaFilms与Kore接洽,要求研究其高度差异化的双向拉伸聚丙烯(BOPP)薄膜的不同表面处理。Kore设计的SurfaceSeer仪器成为Kore后续TOF-SIMS仪器的基础,并为Innovia...

  • 2024-11-25

    便携式飞行时间质谱仪(PortableTime-of-FlightMassSpectrometer,TOF-MS)是一种高灵敏度、高分辨率的分析工具,广泛应用于环境监测、食品安全、药物检测、军事安全等领域。与传统的实验室质谱仪相比,具有体积小、重量轻、操作简便等特点,使其能够在现场快速进行分析和检测。便携式飞行时间质谱仪的工作原理:1.样品离子化:样品先通过离子化源被转化为离子。常见的离子化方法包括电喷雾离子化(ESI)、基质辅助激光解吸/电离(MALDI)和化学离子化(CI...

  • 2024-10-28

    全自动磁控溅射系统是现代薄膜材料制备技术中一种重要的设备,广泛应用于半导体、光电、超导材料和光学薄膜等领域。此系统以其高效率、高均匀性和良好的膜层特性而受到重视。通过精确的控制技术,自动化溅射过程使得膜层的性能更为稳定并可重复,大幅提高了生产效率。全自动磁控溅射系统的结构组成:1.真空腔体:提供低压环境,通常采用不锈钢或铝合金制作,具有很好的密封性与耐腐蚀性。2.靶材:用于溅射的材料,常见的有金属、合金或化合物。靶材的选择直接影响薄膜的成分和性能。3.磁控装置:通过调整磁场的...

  • 2024-09-27

    全自动ICP刻蚀系统是一种先进的半导体制造设备,广泛应用于微电子、光电器件及MEMS(微电机械系统)等领域。ICP(感应耦合等离子体)刻蚀技术以其高效率、高选择性和良好的均匀性而受到青睐。ICP刻蚀是一种利用感应耦合等离子体产生高密度等离子体,并通过对其进行控制来实现对材料的去除过程。在该技术中,氟化气体等化学试剂通过喷嘴进入反应室,与等离子体中的电子和离子发生碰撞,形成活性物种,在材料表面发生化学反应,进而实现刻蚀。全自动ICP刻蚀系统的部分组成:1.反应室:用于进行刻蚀反...

  • 2024-08-29

    在现代科学研究和工业分析领域,对物质的快速、准确分析需求日益增长。质子转移反应飞行时间质谱仪(ProtonTransferReactionTime-of-FlightMassSpectrometry,PTR-TOF-MS)作为一种先进的分析仪器,以其高灵敏度、高分辨率、快速响应等特点,在环境监测、食品安全、生命科学等众多领域发挥着重要作用。质子转移反应飞行时间质谱仪的特点:1.高灵敏度PTR-TOF-MS具有非常高的灵敏度,可以检测到极低浓度的VOCs。这是由于质子转移反应的...

  • 2024-06-26

    金属有机化学气相沉积系统是一种用于制造高质量薄膜和纳米结构材料的重要技术。自其发展以来,MOCVD在半导体、光电子以及储能材料等领域展现了广泛的应用前景。金属有机化学气相沉积系统组成:1.气源供应系统:提供金属有机前驱体和反应气体。常见的金属有机前驱体包括三甲基镓(TMGa)、三乙基镓(TEGa)、三甲基铟(TMIn)等。这些前驱体通常是液态或固态,通过加热和载气(如氢气或氮气)引入反应室。2.反应室:是MOCVD系统的核心部件,通常为高真空腔体。反应室内设有基片台,用于放置...

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