• NRE-4000(M)反应离子刻蚀:独立式RIE系统,淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品,不锈钢柜子以及13“的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2“的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持Z大到12”的晶圆片。腔体为超净设计,并且根据配套的真空泵可以达到10-6Torr或更小的极限真空。该系统系统可以在20mTorr到8Torr之间的真空
  • NRE-3000反应离子刻蚀机:PC控制的RIE反应离子刻蚀系统,淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品,不锈钢柜子及13“的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2“的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持Z大到12“的晶圆片。腔体为超净设计,真空泵可以达到10-6Torr或更小的极限真空。可以在20mTorr到8Torr之间的真空下工作。
  • NRE-3500(A)全自动反应离子刻蚀机:自动上下栽片,PC控制的RIE反应离子刻蚀系统,淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品,不锈钢柜,13“顶盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.2“观察.该系统可以支持Z大到12“的晶圆片。腔体为超净设计,真空泵可以达到10-6Torr或更小的极限真空。可以在20mTorr到8Torr之间的真空下工作。
  • NRE-3500(M)反应离子刻蚀机:PC控制的反应离子刻蚀系统,淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品,不锈钢柜子及13“的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2“的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持至大到12“的晶圆片。腔体为超净设计,真空泵可以达到10-6Torr或更小的极限真空。可以在20mTorr到8Torr之间的真空下工作。
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