• NIE-4000(R)RIBE反应离子束刻蚀:如铜和金等金属不含挥发性化合物,这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的。通常情况下,样品表面采用厚胶作为掩模层,刻蚀期间富有能量的离子流会使得基片和光刻胶过热。除非可以找到有效的方式消除热量,否则光刻胶将变得非常难以去除。
  • NIM-4000(M)离子铣系统:利用离子束轰击固体表面的溅射作用,剥离加工各种几何图形,通过大面积离子源产生的离子束,可对固体材料溅射刻蚀,对固体器件进行微细加工。
  • NIM-4000(A)全自动离子铣刻蚀:利用离子束轰击固体表面的溅射作用,剥离加工各种几何图形,通过大面积离子源产生的离子束,可对固体材料溅射刻蚀,对固体器件进行微细加工。
  • NIE-4000(A)全自动IBE离子束刻蚀:如铜和金等金属不含挥发性化合物,这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的。通常情况下,样品表面采用厚胶作为掩模层,刻蚀期间富有能量的离子流会使得基片和光刻胶过热。除非可以找到有效的方式消除热量,否则光刻胶将变得非常难以去除。
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