NIE-4000IBE离子束刻蚀系统
NIE-4000IBE离子束刻蚀系统概述:
如铜和金等金属不含挥发性化合物,这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的。通常情况下,样品表面采用厚胶作为掩模层,刻蚀期间富有能量的离子流会使得基片和光刻胶过热。除非可以找到有效的方式消除热量,否则光刻胶将变得非常难以去除。
NANO-MASTER技术已经证明了可以把基片温度控制在50° C以内的同时,旋转晶圆片以达到想要的均匀度。
产品特点:
如果你对NIE-4000IBE离子束刻蚀系统感兴趣,想了解更详细的产品信息,填写下表直接与厂家联系: |
相关同类产品: |
NIE-4000(R)RIBE反应离子束刻蚀 | NIM-4000(M)离子铣刻蚀系统 | NIM-4000(A)全自动离子铣刻蚀 | NIE-4000(A)全自动IBE离子束刻蚀 | NIE-4000(M)IBE离子束刻蚀 | NIE-3000IBE离子束刻蚀 | NIE-3500(A)全自动IBE离子束刻蚀 | NIE-3500(M)IBE离子束刻蚀 | NIE-3500(R)RIBE反应离子束刻蚀 |