NSC-4000Sputter磁控溅射镀膜机：*进的全自动溅射系统带有水冷或者加热（可加热至700度）功能；8“旋转样平台,可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过使用RF射频开关，RF射频或DC直流电源可以切换到多磁控管模式。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。

NSC-4000Sputter磁控溅射镀膜机

NSC-4000Sputter磁控溅射镀膜机产品特点：

• 不锈钢，铝质腔体或钟罩式耐热玻璃腔
• 70，250或500 l/s的涡轮分子泵，串接机械泵或干泵
• 13.56MHz，300-600W RF射频电源以及1KW DC直流电源
• 晶振夹具具有的<1 ?的厚度分辨率
• 带观察视窗的腔门易于上下载片
• 基于LabView软件的PC计算机全自动控制
• 带密码保护功能的多级访问控制
• *的安全联锁

选配项：

• 向上、向下或侧面溅射
• RF、DC以及脉冲DC溅射
• 共溅射、反应溅射
• 组合溅射
• RF或DC偏压（1000V）
• 样品台可加热到700°C
• 膜厚监测仪
• 基片的RF射频等离子清洗
• 预真空锁以及自动晶圆片上/下载片

应用：

• 晶圆片、陶瓷片、玻璃白片以及磁头等的金属以及介质涂覆
• 光学以及ITO涂覆
• 带高温样品台和脉冲DC电源的硬涂覆
• 带RF射频等离子放电的反应溅射

型号：

• NSC-4000：基于PC计算机全自动控制的独立式系统
• NSC-3500：基于PC计算机全自动控制的紧凑型独立式系统
• NSC-3000：PC计算机全自动控制的台式系统
• NSC-1000：半自动控制的台式系统

(以下为双系统型号)

• NSR-4000：溅射/RIE系统
• NSP-4000：溅射/PECVD系统
• NST-4000：溅射/热蒸发系统