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NOC-4000进口光学镀膜机
产品型号:NOC-4000
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NOC-4000进口光学镀膜机:NANO-MASTER NOC-4000光学涂覆系统提供先进的技术,在一个腔体中实现原子级清洗和光学样片抛光,然后把样片传送到第二级腔体中对同一样片进行表面涂覆,整个过程不间断真空。系统的设计也可以支持其中任一个腔体的单独使用,同时具备各自的自动上/下载片功能。
NSC-4000(M)磁控溅射系统
产品型号:NSC-4000(M)
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NSC-4000(M)磁控溅射系统:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达到到8“旋转平台,支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。
NPE-4000(ICPM)ICPECVD等离子体化学气相沉积系统
产品型号:NPE-4000(ICPM)
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NPE-4000(ICPM)ICPECVD等离子体化学气相沉积系统: NM的PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可达12” 的基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源,样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加热和冷却.使用250l/sec涡轮分子泵及3.5 cfm的机械泵,真空可低至10-7 torr。标准配置含1路惰性气体、3路活性气体和4个MFC。
NEE-4000(A)全自动电子束蒸发系统
产品型号:NEE-4000(A)
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NEE-4000(A)全自动电子束蒸发系统:NEE-4000电子束蒸发系统为双腔配置,样品台位于主腔体,二级腔体则用于安置电子束源。两腔体之间的门阀作为预真空锁,使得电子束源腔体保持真空的情况下,通过主腔放入基片到样平台(或夹具)上或从中取出。自动装/卸载基片可通过第三方的预真空锁实现。通过PC计算机控制,系统可以提供多电子束源的共蒸发能力,以及对组分或组分梯度进行编程的能力。
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