• NPE-4000(ICPA)全自动ICPECVD等离子体化学气相沉积系统:NM的PECVD能够沉积高质量SiO2,Si3N4,DLC膜到Z大可达6”基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源,样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加热和冷却.使用250l/sec涡轮分子泵及3.5cfm的机械泵,真空可低至10-7torr。标准配置含1路惰性气体、3路活性气体和4个MFC。
  • NTE-3500(A)全自动热蒸发系统:全自动立式热蒸发系统,在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用。设备具有占地面积小、干净、均匀、可控及可重复的工艺特点。具有低价格,高性能以及高能力的特点,可满足于客户研发及小规模生产的应用要求,该系统可以在设定的RMS电流下,或者在闭环的配置下操作,并且在这种情况下沉积速度的变化被用于调节RMS电流以维持恒定的沉积速度。
  • 微波等离子化学气相沉积系统:NM的微波PECVD能够沉积高质量SiO2,Si3N4,或DLC膜到Z大可达12”的基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源,样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加热和冷却.使用250l/sec涡轮分子泵及3.5cfm的机械泵,真空可低至10-7torr。标准配置含1路惰性气体、3路活性气体和4个MFC。
  • 光学镀膜设备:NANO-MASTERNOC-4000光学涂覆系统提供先进的技术,在一个腔体中实现原子级清洗和光学样片抛光,然后把样片传送到第二级腔体中对同一样片进行表面涂覆,整个过程不间断真空。系统的设计也可以支持其中任一个腔体的单独使用,同时具备各自的自动上/下载片功能。
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