NOC-4000进口光学镀膜机：NANO-MASTERNOC-4000光学涂覆系统提供先进的技术，在一个腔体中实现原子级清洗和光学样片抛光，然后把样片传送到第二级腔体中对同一样片进行表面涂覆，整个过程不间断真空。系统的设计也可以支持其中任一个腔体的单独使用，同时具备各自的自动上/下载片功能。

NSC-4000（M）磁控溅射系统：带有水冷或者加热（可加热到700度）功能，可达到到8“旋转平台，支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7Torr，15分钟内可以达到10-6Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。

NPE-4000（ICPM）ICPECVD等离子体化学气相沉积系统:NM的PECVD能够沉积高质量SiO2,Si3N4,或DLC膜到Z大可达12”的基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源，样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加热和冷却.使用250l/sec涡轮分子泵及3.5cfm的机械泵，真空可低至10-7torr。标准配置含1路惰性气体、3路活性气体和4个MFC。

NEE-4000（A）全自动电子束蒸发系统：NEE-4000电子束蒸发系统为双腔配置，样品台位于主腔体，二级腔体则用于安置电子束源。两腔体之间的门阀作为预真空锁，使得电子束源腔体保持真空的情况下，通过主腔放入基片到样平台（或夹具）上或从中取出。自动装/卸载基片可通过第三方的预真空锁实现。通过PC计算机控制，系统可以提供多电子束源的共蒸发能力，以及对组分或组分梯度进行编程的能力。