• 产品型号:NSC-4000(M)

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    NSC-4000(M)磁控溅射系统:带有水冷或者加热(Z高可加热到700度)功能,Z大到8“旋转平台,Z大可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7Torr,15分钟内可以达到10-6Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。
  • NSC-4000(A)全自动磁控溅射系统:立式自动系统,带有水冷或者加热(Z高可加热到700度)功能,Z大到6“旋转平台,Z大可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7Torr,15分钟内可以达到10-6Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。
  • NSC-3500(A)全自动磁控溅射系统:立式自动系统,带有水冷或者加热(Z高可加热到700度)功能,Z大到6“旋转平台,Z大可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7Torr,15分钟内可以达到10-6Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。
  • NSC-3500(M)磁控溅射系统:带有水冷或者加热(Z高可加热到700度)功能,Z大到8“旋转平台,Z大可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7Torr,15分钟内可以达到10-6Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。
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