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NSC-3000(M)磁控溅射系统

NSC-3000(M)磁控溅射系统:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达6“旋转平台,支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2023-11-13
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产品详情

磁控溅射技术

NSC-3000(M)磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达6"旋转平台,支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。

NSC-3000带有12”派热克钟罩腔体,22”的磁控管,DC直流和RF射频电源。 在选配方面,我们提供不锈钢腔体,260 l/s涡轮分子泵,额外的磁控管和衬底加热功能。

NSC-3000(M)磁控溅射系统产品特点:

  • 不锈钢,铝质腔体或钟罩式耐热玻璃
  • 70250500 l/s的涡轮分子泵,串接机械泵或干泵
  • 13.56MHz300-600W RF射频电源以及1KW DC直流电源
  • 晶振夹具具有的<1 ?的厚度分辨率
  • 带观察视窗的腔门易于上下载片
  • 基于LabView软件的PC计算机控制
  • 带密码保护功能的多级访问控制
  • *的安全联锁功能

选配项:

  • 不锈钢腔体
  • RFDC溅射
  • RFDC偏压(1000V
  • 样品台可加热到700°C
  • 膜厚监测仪
  • 基片的RF射频等离子清洗
  • 预真空锁以及自动晶圆片上/下载片

应用:

  • 晶圆片、陶瓷片、玻璃白片以及磁头等的金属以及介质涂覆
  • 光学以及ITO涂覆
  • 带高温样品台和脉冲DC电源的硬涂覆
  • RF射频等离子放电的反应溅射

 

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