• 产品名称:NSC-1000磁控溅射系统

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    产品特点:NSC-1000磁控溅射系统:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达6“旋转平台,支持到2个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。

    NSC-1000磁控溅射系统的详细资料:

    磁控溅射技术

    NSC-1000磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达6"旋转平台,支持到2个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。

    NSC-1000带有10”派热克钟罩腔体,22”的磁控管,DC直流电源用于溅射金属,并带有膜厚监测仪(选配)。由于NSC-1000的空间有限,我们不能在NSC-1000系统上提供更多的电源和磁控管。我们可以提供我们的NSC-1000系统,用于SEM应用,也可以用于溅射金属到z大6”的晶圆片。

    NSC-1000磁控溅射系统产品特点

    • 不锈钢,铝质腔体或钟罩式耐热玻璃腔
    • 70l/s的涡轮分子泵,串接机械泵或干泵
    • 1KW DC直流电源
    • 晶振夹具具有的<1 ?的厚度分辨率
    • 带观察视窗的腔门易于上下载片
    • 基于LabView软件的PC计算机控制
    • 带密码保护功能的多级访问控制
    • 完全的安全联锁功能

    选配项:

    • Thickness Monitor   膜厚监测

    应用:

    • SEM应用
    • 溅射金属,可达6"的晶圆片

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