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    产品名称：NSC-1000磁控溅射系统

    产品型号：

    产品报价：

    产品特点：NSC-1000磁控溅射系统：带有水冷或者加热（可加热到700度）功能，可达6“旋转平台，支持到2个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。

    NSC-1000磁控溅射系统的详细资料：

    磁控溅射技术

    NSC-1000磁控溅射系统概述：带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，可达6"旋转平台，支持到2个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。

    NSC-1000带有10”派热克钟罩腔体，2个2”的磁控管，DC直流电源用于溅射金属，并带有膜厚监测仪(选配)。由于NSC-1000的空间有限，我们不能在NSC-1000系统上提供更多的电源和磁控管。我们可以提供我们的NSC-1000系统，用于SEM应用，也可以用于溅射金属到z大6”的晶圆片。

    NSC-1000磁控溅射系统产品特点：

    • 不锈钢，铝质腔体或钟罩式耐热玻璃腔
    • 70l/s的涡轮分子泵，串接机械泵或干泵
    • 1KW DC直流电源
    • 晶振夹具具有的<1 ?的厚度分辨率
    • 带观察视窗的腔门易于上下载片
    • 基于LabView软件的PC计算机控制
    • 带密码保护功能的多级访问控制
    • *的安全联锁功能

    选配项：

    • Thickness Monitor   膜厚监测

    应用：

    • SEM应用
    • 溅射金属，可达6"的晶圆片

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