• 产品名称:NSC-3500(M)磁控溅射系统

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    产品特点:NSC-3500(M)磁控溅射系统:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达8“旋转平台,支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。

    NSC-3500(M)磁控溅射系统的详细资料:

    磁控溅射技术

    NSC-3500(M)磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达8"旋转平台,支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。

    NSC-3500带有10”派热克钟罩腔体或者13"铝质腔体,32”的磁控管,DC直流和RF射频电源。 在选配方面,我们提供不锈钢腔体,350 l/s涡轮分子泵,额外的磁控管和衬底加热功能。

    NSC-3500(M)磁控溅射系统产品特点:

    • 不锈钢,铝质腔体或钟罩式耐热玻璃
    • 260500 l/s的涡轮分子泵,串接机械泵或干泵
    • 13.56MHz300-600W RF射频电源以及1KW DC直流电源
    • 晶振夹具具有的<1 ?的厚度分辨率
    • 带观察视窗的腔门易于上下载片
    • 基于LabView软件的PC计算机控制
    • 带密码保护功能的多级访问控制
    • 完全的安全联锁功能

    选配项:

    • 不锈钢腔体
    • 热蒸镀能力
    • RFDC溅射
    • RFDC偏压(1000V
    • 样品台可加热到700°C
    • 膜厚监测仪
    • 基片的RF射频等离子清洗
    • 预真空锁以及自动晶圆片上/下载片

    应用:

    • 晶圆片、陶瓷片、玻璃白片以及磁头等的金属以及介质涂覆
    • 光学以及ITO涂覆
    • 带高温样品台和脉冲DC电源的硬涂覆
    • RF射频等离子放电的反应溅射

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