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产品名称:NIE-3500(R)RIBE反应离子束刻蚀
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产品特点:NIE-3500(R)RIBE反应离子束刻蚀:可以用于光栅刻蚀,SiO2二氧化硅、Si 硅以及金属等的深槽刻蚀。此外,还可以用于表面清洗、表面处理、离子铣。系统可以兼容反应气体以及非反应气体,比如Ar,O2,CF4,Cl2等。
NIE-3500(R)RIBE反应离子束刻蚀产品概述:该系统为计算机全自动实现工艺控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统,具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。所有核心组件均为。
NIE-3500(R)RIBE反应离子束刻蚀产品特点:
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