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    产品名称：NIE-3500（R）RIBE反应离子束刻蚀

    产品型号：

    产品报价：

    产品特点：NIE-3500（R）RIBE反应离子束刻蚀：可以用于光栅刻蚀，SiO2二氧化硅、Si 硅以及金属等的深槽刻蚀。此外，还可以用于表面清洗、表面处理、离子铣。系统可以兼容反应气体以及非反应气体，比如Ar，O2，CF4，Cl2等。

    NIE-3500（R）RIBE反应离子束刻蚀的详细资料：

    RIBE反应离子束刻蚀

    NIE-3500（R）RIBE反应离子束刻蚀产品概述：该系统为计算机全自动实现工艺控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。所有核心组件均为。

    NIE-3500（R）RIBE反应离子束刻蚀产品特点：

    • 低成本
    • 离子束：高达2KV/10mA
    • 离子电流密度100-360uA/cm2
    • 离子束直径：4",5",6"
    • 兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)
    • 极限真空5x10-7Torr
    • 260l/s涡轮分子泵，串接500 l/min干泵
    • 14"不锈钢或铝质腔体
    • 水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500)
    • 自动上下载片（NIE-3500）
    • 基于LabView软件的PC计算机全自动控制
    • 占地面积30"x30"

    产品应用：

    • 表面清洗
    • 表面处理
    • 离子铣
    • 带活性气体的离子束刻蚀
    • 光栅刻蚀
    • SiO2，Si和金属的深槽刻蚀

     

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