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    产品名称：NIE-3000IBE离子束刻蚀

    产品型号：

    产品报价：

    产品特点：NIE-3000IBE离子束刻蚀：是一款手动放片/取片，但工艺过程为全自动计算机控制的台式离子束刻蚀系统，可以用于表面清洗、表面处理、离子铣等。

    NIE-3000IBE离子束刻蚀的详细资料：

    IBE离子束刻蚀

    NIE-3000IBE离子束刻蚀产品概述：该系统为手动放片取片，但通过计算机全自动实现工艺控制的台式离子束刻蚀系统，系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。该系统所配套的所有核心组件均为。

    NIE-3000IBE离子束刻蚀产品特点：

    • 低成本
    • 离子束：高达2KV/10mA
    • 离子电流密度100-360uA/cm2
    • 离子束直径：4",5",6"
    • 兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)
    • 极限真空5x10-7Torr
    • 260l/s涡轮分子泵，串接500 l/min干泵
    • 14"不锈钢或铝质腔体
    • 水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500)
    • 自动上下载片（NIE-3500）
    • 基于LabView软件的PC计算机全自动控制
    • 占地面积30"x30"

    产品应用：

    • 表面处理
    • 离子铣
    • 表面清洗
    • 带活性气体的离子束刻蚀：  光栅刻蚀，以及SiO2，Si和金属的深槽刻蚀

     

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