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NIE-3000IBE离子束刻蚀

NIE-3000IBE离子束刻蚀:是一款手动放片/取片,但工艺过程为全自动计算机控制的台式离子束刻蚀系统,可以用于表面清洗、表面处理、离子铣等。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2023-11-13
  • 访  问  量:5056
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产品详情

IBE离子束刻蚀

NIE-3000IBE离子束刻蚀产品概述:该系统为手动放片取片,但通过计算机全自动实现工艺控制的台式离子束刻蚀系统,系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。该系统所配套的所有核心组件均为。

NIE-3000IBE离子束刻蚀产品特点:

  • 低成本
  • 离子束:高达2KV/10mA
  • 离子电流密度100-360uA/cm2
  • 离子束直径:4",5",6"
  • 兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)
  • 极限真空5x10-7Torr
  • 260l/s涡轮分子泵,串接500 l/min干泵
  • 14"不锈钢或铝质腔体
  • 水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500)
  • 自动上下载片(NIE-3500)
  • 基于LabView软件的PC计算机全自动控制
  • 占地面积30"x30"

产品应用:

  • 表面处理
  • 离子铣
  • 表面清洗
  • 带活性气体的离子束刻蚀:  光栅刻蚀,以及SiO2,Si和金属的深槽刻蚀

 

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