研发用等离子去胶机：Alpha等离子系统ASTRO96是一款低压微波等离子系统，用于键合、模塑、焊锡球黏合前的先进芯片封装清洗，以及倒装芯片清洗。ASTRO96是全自动等离子系统，待处理的基片通过片匣缓存区载入，清洗完成后放回同一个片匣缓存区。

NPC-3500（A）研发用等离子去胶机：NANO-MASTER等离子去胶和等离子清洗机是专门设计用来满足晶圆批处理或单晶片处理，具有广泛应用，从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制，可以配套不同的等离子源，加热或不加热基片夹具,具有*的能力:可以从PE等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式,也就是说可以支持各向同性和各向异性的各种应用。