• SWC-4000兆声清洗系统:Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及Z先进的兆声清洗。它是高度集成的一体化系统,可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。
  • NPC-4000(A)全自动微波等离子清洗机:NANO-MASTER等离子清洗和等离子灰化机是专门设计用来满足晶圆批处理或单晶片处理,具有广泛应用,从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制,可以配套不同的等离子源,加热或不加热基片夹具,具有*的能力:可以从PE等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式,也就是说可以支持各向同性和各向异性的各种应用。
  • ASTRO96全自动微波等离子清洗系统:Alpha等离子系统ASTRO96是一款低压微波等离子系统,用于键合、模塑、焊锡球黏合前的先进芯片封装清洗,以及倒装芯片清洗。ASTRO96是全自动等离子系统,待处理的基片通过片匣缓存区载入,清洗完成后放回同一个片匣缓存区。
  • 进口微波去胶机:Q系列等离子清洗机是石英腔的微波等离子系统,可以安装到超净间墙上。该系列的微波等离子系统可以用于批处理,也可以作为单片处理,系统为计算机全自动控制的系统。典型工艺包含:大剂量离子注入后的光刻胶去除;干法刻蚀工艺的前处理或后处理;MEMS制造中的牺牲层去除。
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