AL76微波等离子去胶清洗机：AL76等离子系统适用于批量生产，也可以i满足研发及实验室应用。并且，此系统可以满足360度的芯片封装需要、工业、医药等领域。AL76系统是一款创新型的通用设备，可选配旋转转盘，及ECR（电子回旋共振）装置。

AL18微波等离子去胶清洗机：AL18等离子系统适用于小批量生产和研发的*设备。并且，此系统可以满足360度的芯片封装需要。AL18系统是一款创新型的通用设备，可选配旋转转盘，及ECR（电子回旋共振）装置。

NIE-3500（M）离子束清洗系统：是一款手动放片/取片，但工艺过程为全自动计算机控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，可以用于表面清洗、表面处理、离子铣。

NIE-3500（A）全自动离子束清洗系统：是一款自动放片/取片，并且工艺过程为全自动计算机控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，可以用于表面清洗、表面处理、离子铣。