• NMC-4000(M)PA-MOCVD设备:针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5x10-7Torr极限真空)、PC全自动控制。
  • 产品型号:NMC-4000(M)

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    NMC-4000(M)MOCVD设备:NANO-MASTER研发出世界上*台台式等离子辅助金属有机物化学气相沉积系统,可沉积氮化镓、氮化铟镓和氮化铝镓等工艺。该系统特征包括五个独立的冷却容器,加热气体管道,950°C热板,三个气体环,带有喷头气体分配器的射频等离子源和工艺Z后氮气冲刷,5×10-7托基准压,250l/sec涡轮分子泵以及无油叶片二级泵,全自动电脑控制和安全互锁。
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