NMC-4000（M）PA-MOCVD设备：针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统（PA-MOCVD）,该系统具有5个鼓泡装置（各带独立的冷却槽）、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵（5x10-7Torr极限真空）、PC全自动控制。

NMC-4000（M）MOCVD设备：NANO-MASTER研发出世界上*台台式等离子辅助金属有机物化学气相沉积系统，可沉积氮化镓、氮化铟镓和氮化铝镓等工艺。该系统特征包括五个独立的冷却容器，加热气体管道，950°C热板，三个气体环，带有喷头气体分配器的射频等离子源和工艺Z后氮气冲刷，5×10-7托基准压，250l/sec涡轮分子泵以及无油叶片二级泵，全自动电脑控制和安全互锁。