• RIE刻蚀机是基于PC控制的全自动系统

    点击次数:23 发布时间:2022-09-20

      RIE刻蚀机是干蚀刻的一种,这种蚀刻的原理是,当在平板电极之间施加10~100MHZ的高频电压(RF,radiofrequency)时会产生数百微米厚的离子层(ionsheath),在其中放入试样,离子高速撞击试样而完成化学反应蚀刻,此即为RIE(ReactiveIonEtching)。因此为了得到高速而垂直的蚀刻面,经加速的多数离子不能与其他气体分子等碰撞,而直接向试样撞击。为达到此目的,必须对真空度,气体流量,离子加速电压等进行最佳调整,同时,为得到高密度的等离子体,需用磁控管施加磁场,以提高加工能力。
      RIE刻蚀机优势特点:
      1.是一种新型的低成本、高性能、全自动反应离子刻蚀系统,能够满足非腐蚀性气体化学苛刻的工艺要求。
      2.计算机化触摸屏为工艺配方编程和存储提供了用户友好的界面。
      3.该系统可以实现精确的侧壁轮廓控制和材料之间的高蚀刻选择性。
      4.凭借其圆滑、紧凑的设计,只需要很小的洁净室空间。
      5.加工至ø220mm(ø3“x5,ø4”x3,ø8”x1)。
      6.高选择性各向异性蚀刻满足严格的工艺要求全自动“一键式”操作。
      7.自动压力控制,允许独立于气流干泵和系统布局的过程压力精确控制,便于维护。
      8.于Windows的用户界面,丰富的配方和内置的数据记录功能,是一个可靠和持久的系统,全球安装了400多个系统。
      RIE刻蚀机是基于PC控制的全自动系统.系统真空压力及DC直流偏压将以图形格式实时显示,流量及功率则以数字形式实时显示.系统提供密码保护的四级访问功能:操作员级、工程师级、工艺人员级,以及维护人员级.允许半自动模式(工程师模式)、写程序模式(工艺模式),和全自动执行程序模式(操作模式)运行系统。基于全自动的控制,该系统具有高度的可重复性。
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