• 揭秘远程微波PECVD系统简介

    点击次数:108 发布时间:2022-08-31

    Nano-Master的远程微波等离子体化学气相沉积(PECVD)系统应用范围广泛,包含:

    基片或粉体的等离子诱导表面改性

    等离子清洗

    粉体或颗粒表面等离子聚合

    SiO2,Si3N4DLC及其他薄膜

    CNT和石墨烯的选择性生长

    单晶或多晶金刚石生长

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    微波模块:NANO-MASTER高质量长寿命远程微波源,频率为2.45GH,微波发射功率可以自主调节,微波反射功率可通过调节降低至发射功率的千分之一以内。远程微波源,可实现无损伤缺陷的沉积或生长。

    设备腔体水冷侧壁,确保在高温工艺下腔体外表面温度控制在60℃内;在高温工艺进行过程中,等离子体被束缚在有限的体积内,不会对腔体造成刻蚀。

    样品台:可自动加热到最高1200℃,PID精确控制,精度±1℃,跟微波电源的加热独立。高温工艺下可持续旋转,主动冷却。具有自动升降功能,可针对自动Load Unload下降样品台便于片托自动取出。

    温度模块:通过系统参数实现衬底温度精确控制,在稳定的工艺过程中温度浮动不超过±10℃。利用双波长高温计实现对衬底的非接触式温度测量;样品台内部通过热电偶测量。

    气体控制:根据需求最多可配置8路工艺气体,配备吹扫气路,利用氮气或是氩气对管路吹扫。淋浴头和气体环均匀设计,使得气体在高温工作状态下成分均一,流速稳定,不会对衬底造成扰动。

    真空模块:腔室的极限真空度可达1*10-5Pa

    样品传送模块:系统可以支持自动Load Lock实现计算机控制的自动进样和出片

    控制模块:配备计算机控制系统,详细记录工艺过程中各项参数。具备安全互锁功能及4级密码授权访问控制。



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    以远程微波PECVD系统沉积金刚石薄膜为例,从甲烷、氢气或氩气的气体混合物中将多晶金刚石薄膜沉积到衬底上。沉积过程中的基片温度通常为800~900°C,通过双波长高温计测量。甲烷、氢气和氩气的浓度、功率和压力值可以改变,以产生各种金刚石膜纹理。因金刚石的许多特性:如化学惰性和稳定性,高导热性,高声速,高断裂强度,疏水性,耐磨性,生物惰性,其表面可功能化,并涂覆保形性等,使其成为许多应用的选择。应用包括MEMS/NEMS器件、摩擦学(机械和生物部件涂层)、热(散热器/扩散器)、切割工具、辐射传感器(电离辐射探测器/剂量计)、电化学应用(生化传感器)、光学(红外窗口、透镜、X射线窗口)和离子束剥离箔。

     

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