等离子体增强MOCVD：针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统（PA-MOCVD）,该系统具有5个鼓泡装置（各带独立的冷却槽）、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、 250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵（5 x 10-7Torr极限真空）、PC全自动控制，*的安全

等离子体增强MOCVD

等离子体增强MOCVD概述：

    MOVPE，也就是大名鼎鼎的MOCVD(金属有机物化学气相沉积), 针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有加热的气体管路、5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、950度样品台三个气体环、PC全自动控制、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、 250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5 x 10-7Torr极限真空)，*的安全互锁。

    目前，NANO-MASTER(那诺-马斯特)的这项技术延伸到5个4"晶圆的立柜式独立批处理系统，该系统可以集成到集群配置中以满足高产量的要求。

等离子体增强MOCVD型号：

• 台式系统
• 5个带独立冷却槽的起泡器
• 加热的气体管路
• 950 °C样品台，2"晶圆片
• 3个气体环
• RF等离子源，带淋浴头气体分布
• 工艺完成后N2自动冲洗
• 极限真空5x10-7Torr
• 250 l/s的涡轮分子泵串接无油干泵
• 通过LabView软件实现PC计算机全自动控制
• 菜单驱动，4级密码访问控制
• 完整的安全联锁

配置：

• 独立系统
• 14"不锈钢立方体腔体
• 1次在8"样品台上处理1个6"晶圆片或在12"样品台上处理5片4"片子
• 加热的气体管路
• RF等离子源，自动调谐
• 淋浴头气体分布
• 1100°C的旋转样品台
• N2冲洗
• 手动或自动的晶圆片上下载
• 可以兼容到集群配置中

应用：

• 3到5族半导体层
• 蓝色发光二极管
• 激光二极管
• 紫外-可见光谱光电中的氮化铟纳米棒
• 3D或2D材料中的二硫化钼、氮化硼、石墨烯