PEALD系统是一种化学气相沉积技术，广泛应用于微电子设备制造、太阳能电池和纳米材料研究等领域。以原子层沉积技术为基础，通过在反应室中交替注入两种气体，执行反应和清洗过程，实现对表面沉积物的逐层生长。
PEALD系统的组成由四个主要部分构成：反应室、进气系统、真空系统和控制系统。其中反应室是最重要的组成部分，用于承载沉积表面和反应气体。反应室具有良好的密封性能，以确保反应气体能够准确传递到沉积表面。反应室内部的沉积表面是由基板表面形成的，在表面形成的沉积物层上进行PEALD沉积。
1、进气系统是用于控制反应室内的气体流量和压力的系统。它通常包括两个进气口，一个用于注入反应气体，另一个用于清洗反应室。这些气体的流量和压力受到精密控制，以确保PEALD沉积具有高度的均匀性和可重复性。
2、真空系统是保持反应室处于高真空状态的关键组成部分。它包括真空管和泵，以便将空气和杂质气体从反应室中抽取出来。高质量的真空状态对于PEALD沉积过程非常重要，因为它有助于反应气体沉积在基板表面上。
3、控制系统通常是一个计算机控制的系统，用于实时监控和控制各种参数，如反应气体流量，真空度和沉积速率。这个系统通过传感器和监测器进行反应数据的获取和分析，并向操作员提供PEALD沉积过程中的实时反馈信息。
PEALD系统的性能特点：
1、高准确性：该系统可以在超薄的基板上制备出高质量的薄膜，具有很高的准确性。
2、单一分子沉积：该系统可以单一分子的进行沉积，可以有效的控制化学反应。
3、非常规材料：该系统可以非常规材料，如非晶硅、氮化硅、铜等进行沉积，使其应用范围更加广泛。
4、使用方便：该系统操作简单，只需要进行一些简单的调节就可以进行沉积。
5、高质量：基于单粒子级别的反应，制备的薄膜具有高质量和优异的成膜率，同时具有良好的抗氧化性能。
