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NMC-4000(M) MOCVD设备
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等离子辅助MOCVD技术
NMC-4000(M) MOCVD设备概述:NANO-MASTER针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5 x 10-7Torr极限真空)、PC全自动控制,*的安全互锁。
目前,这项技术延伸到5个4"晶圆的立柜式独立批处理系统,该系统可以集成到集群配置中以满足高产量的要求。
NMC-4000(M) MOCVD设备特点:
选配:
应用: