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NMC-4000(M) MOCVD设备

NMC-4000(M) MOCVD设备:NANO-MASTER针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5 x 10-7Torr极限真空)、PC全自动控制,

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  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2023-11-13
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产品详情

等离子辅助MOCVD技术

NMC-4000(M) MOCVD设备概述:NANO-MASTER针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5 x 10-7Torr极限真空)、PC全自动控制,*的安全互锁。

目前,这项技术延伸到5个4"晶圆的立柜式独立批处理系统,该系统可以集成到集群配置中以满足高产量的要求。

NMC-4000(M) MOCVD设备特点:

  • 台式系统
  • 10英寸不锈钢腔体
  • 带碰头气体分配器的射频等离子源
  • 自动调节
  • 4英寸基片夹、可加热到900°C
  • 5个带独立冷却/加热的起泡器
  • 加热气体管道
  • 附加流量控制器
  • 250升/秒涡轮分子泵组
  • 5×10-7托基准压
  • 电脑程序全自动驱动
  • 仪器模拟用户界面
  • 紧急按钮保护和安全互锁

选配:

  • 立式独立系统
  • 感应耦合等离子或微波等离子源
  • 14英寸电解抛光立方体腔体
  • 8英寸或12英寸基片夹
  • 6英寸可加热至700°C旋转基板台(4英寸可到950°C)
  • 附加的起泡器和MFC
  • 晶圆自动装载/卸载
  • 可兼容集群配置

应用:

  • 3到5族半导体层
  • 蓝色发光二极管
  • 激光二极管
  • 紫外-可见光谱光电中的氮化铟纳米棒
  • 3D或2D材料中的二硫化钼、氮化硼、石墨烯
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