• 产品名称:NMC-4000(M) MOCVD设备

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    产品特点:NMC-4000(M) MOCVD设备:NANO-MASTER针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5 x 10-7Torr极限真空)、PC全自动控制,

    NMC-4000(M) MOCVD设备的详细资料:

    等离子辅助MOCVD技术

    NMC-4000(M) MOCVD设备概述:NANO-MASTER针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5 x 10-7Torr极限真空)、PC全自动控制,完全的安全互锁。

    目前,这项技术延伸到5个4"晶圆的立柜式独立批处理系统,该系统可以集成到集群配置中以满足高产量的要求。

    NMC-4000(M) MOCVD设备特点:

    • 台式系统
    • 10英寸不锈钢腔体
    • 带碰头气体分配器的射频等离子源
    • 自动调节
    • 4英寸基片夹、可加热到900°C
    • 5个带独立冷却/加热的起泡器
    • 加热气体管道
    • 附加流量控制器
    • 250升/秒涡轮分子泵组
    • 5×10-7托基准压
    • 电脑程序全自动驱动
    • 仪器模拟用户界面
    • 紧急按钮保护和安全互锁

    选配:

    • 立式独立系统
    • 感应耦合等离子或微波等离子源
    • 14英寸电解抛光立方体腔体
    • 8英寸或12英寸基片夹
    • 6英寸可加热至700°C旋转基板台(4英寸可到950°C)
    • 附加的起泡器和MFC
    • 晶圆自动装载/卸载
    • 可兼容集群配置

    应用:

    • 3到5族半导体层
    • 蓝色发光二极管
    • 激光二极管
    • 紫外-可见光谱光电中的氮化铟纳米棒
    • 3D或2D材料中的二硫化钼、氮化硼、石墨烯

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