• 产品名称:MOCVD设备

    产品型号:NMC-4000(M)

    产品报价:

    产品特点:NMC-4000(M)MOCVD设备:NANO-MASTER研发出世界上*台台式等离子辅助金属有机物化学气相沉积系统,可沉积氮化镓、氮化铟镓和氮化铝镓等工艺。该系统特征包括五个独立的冷却容器,加热气体管道,950°C热板,三个气体环,带有喷头气体分配器的射频等离子源和工艺Z后氮气冲刷,5×10-7托基准压,250l/sec涡轮分子泵以及无油叶片二级泵,全自动电脑控制和安全互锁。

    NMC-4000(M)MOCVD设备的详细资料:

    等离子辅助MOCVD技术

    NMC-4000(M)MOCVD设备概述:NANO-MASTER针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5 x 10-7Torr极限真空)、PC全自动控制,完全的安全互锁。

    目前,这项技术延伸到5个4"晶圆的立柜式独立批处理系统,该系统可以集成到集群配置中以满足高产量的要求。

    MOCVD设备特点:

    • Table top system  台式系统
    • 10" SS chamber  10英寸不锈钢腔体
    • RF plasma source with shower head gas distribution 带碰头气体分配器的射频等离子源
    • Auto tuner 自动调节
    • 4" Substrate holder, heated up to 900°C   4英寸基片夹、可加热到900°C
    • Five bubblers with individual cooling/heating baths
    • Heated gas lines 加热气体管道
    • Additional MFC’s  附加流量控制器
    • 250l/s turbomolecular pumping package  250/秒涡轮分子泵组
    • 5x10-7 torr base pressure  5×10-7托基准压
    • Fully automated PC based, recipe driven  电脑程序全自动驱动
    • LabVIEW user interface  仪器模拟用户界面
    • EMO protection and safety interlocks紧急按钮保护和安全互锁

    选配:

    • Stand alone system 立式独立系统
    • ICP or microwave plasma source  感应耦合等离子或微波等离子源
    • 14" SS electropolished cubical chamber 14英寸电解抛光立方体腔体
    • 8" or 12" substrate holder 8英寸或12英寸基片夹
    • 700°C rotating substrate holder for 6" platen and 950°C for 4" platen   6英寸可加热至700°C旋转基板台(4英寸可到950°C
    • Additional Bubblers and MFCs 
    • Auto Load/Unload  晶圆自动装载/卸载
    • Cluster configuration compatibility 可兼容集群配置

    应用:

    • III-V Semiconductor layers  35族半导体层
    • Blue LEDs  蓝色发光二极管
    • Laser Diodes  激光二极管
    • InN Nanorods in UV-Vis-IR optoelectronics紫外-可见光谱光电中的氮化铟纳米棒
    • MoS2, BN and Graphene in 3D and 2D materials    3D2D材料中的二硫化钼、氮化硼、石墨烯

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