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NMC-4000(M)PA-MOCVD设备

NMC-4000(M)PA-MOCVD设备:针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5 x 10-7Torr极限真空)、PC全自动控制。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2023-11-13
  • 访  问  量:1929
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产品详情

等离子辅助MOCVD技术

NMC-4000(M)PA-MOCVD设备概述:

NANO-MASTER针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5 x 10-7Torr极限真空)、PC全自动控制,*的安全互锁。

目前,这项技术延伸到5个4"晶圆的立柜式独立批处理系统,该系统可以集成到集群配置中以满足高产量的要求。

NMC-4000(M)PA-MOCVD设备应用:

  • Green LED’s (GaN, InGaN, AlGaN, ...)

特点:

  • 独立系统
  • 14”不锈钢立方体腔体
  • 1次在8”样品台上处理16”晶圆片或在12”样品台上处理54”片子
  • 加热的气体管路
  • RF等离子源,自动调谐
  • 淋浴头气体分布
  • 1100°C的旋转样品台
  • N2冲洗
  • 手动放置晶圆片

 

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