• 产品名称:NMC-4000(M)PA-MOCVD设备

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    产品报价:

    产品特点:NMC-4000(M)PA-MOCVD设备:针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5 x 10-7Torr极限真空)、PC全自动控制。

    NMC-4000(M)PA-MOCVD设备的详细资料:

    等离子辅助MOCVD技术

    NMC-4000(M)PA-MOCVD设备概述:

    NANO-MASTER针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5 x 10-7Torr极限真空)、PC全自动控制,完全的安全互锁。

    目前,这项技术延伸到5个4"晶圆的立柜式独立批处理系统,该系统可以集成到集群配置中以满足高产量的要求。

    NMC-4000(M)PA-MOCVD设备应用:

    • Green LED’s (GaN, InGaN, AlGaN, ...)

    特点:

    • 独立系统
    • 14”不锈钢立方体腔体
    • 1次在8”样品台上处理16”晶圆片或在12”样品台上处理54”片子
    • 加热的气体管路
    • RF等离子源,自动调谐
    • 淋浴头气体分布
    • 1100°C的旋转样品台
    • N2冲洗
    • 手动放置晶圆片

    Features:

    • Stand Alone System
    • 14” Stainless Steel Cube Chamber
    • One 6” Wafer with 8” Platen or five 4” Wafers on 12” platen
    • Heated Gas Lines
    • RF Plasma Source with Auto Tuner
    • Shower Head Gas Distribution
    • 1100 °C Platen, Rotating
    • N2 Flush
    • Manual wafer Loading and Unloading 

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