• 原子层沉积设备技术:发展趋势

    点击次数:181 发布时间:2020-05-20

      随着原子层沉积技术与其他先进技术不断融合以及人们对原子层沉积设备的不断改进,诸如“等离子体增强原子层沉积技术”、“空间式原子层沉积技术”、“流化床原子层沉积技术”等新型原子层沉积技术逐渐出现并在一定程度上有效解决了传统热原子层沉积技术所面临的诸多难题。
     
      在过去二十多年,等离子体增强原子层沉积技术发展迅速。通过巧妙设计等离子体引入方式,人们已经设计出各种等离子体增强原子层沉积设备
     
      从文献报道来看,针对太阳能光伏领域的应用,一套成熟的空间式原子层沉积设备需保证每小时超过3000片156×156mm2规格Si片的生产能力。由于空间式原子层沉积设备中沉积速率不再受限于单个循环步骤的累计时间,仅取决于衬底或前驱体喷嘴在两个半反应区间移动所需的时间,而薄膜厚度也仅取决于喷头上所集成的沉积单元数量,若能保证1s通过一个这样规格的Si片,目前的设计完全可以满足工业化应用需求。此外,针对柔性衬底表面沉积时,采用转动式的反应器设计,同样能将沉积速率提升至1.2nm/s。
     
      原子层沉积技术经过四十多年的发展,无论是在沉积材料的种类还是具体沉积方法的扩展与改进上,都已经取得了长足进步,在众多领域更是展现出令人期待的商业前景。但传统的热原子层沉积技术在发展过程中仍面临着一些挑战。
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