看完这篇文章才知道硅片清洗机的应用范围是如此的广泛
点击次数：1035 更新时间：2021-06-25
硅片清洗机可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的z大化支持z理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。
硅片清洗机应用：
带图案或不带图案的掩模版和晶圆片
Ge,GaAs以及InP晶圆片清洗
CMP处理后的晶圆片清洗
晶圆框架上的切粒芯片清洗
等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗
带保护膜的分划版清洗
掩模版空白部位或接触部位清洗
X射线及极紫外掩模版清洗
光学镜头清洗
ITO涂覆的显示面板清洗
兆声辅助的剥离工
硅片和蓝宝石片清洗
带晶圆框架的芯片清洗
FSI清洗
硅片和蓝宝石片清洗
带晶圆框架的芯片清洗
显示平板，ITO涂层显示屏清洗
带图案及无图案掩模版清洗
带保护膜分划板的背面清洗
薄膜结构胶粘剂清洗
光刻胶涂覆/剥离和Piranha去胶
背面多晶去除
显影和其他刻蚀应用
