离子铣刻蚀系统是利用离子束轰击固体表面的溅射作用，剥离加工各种几何图形，通过大面积离子源产生的离子束，可对固体材料溅射刻蚀，对固体器件进行微细加工。
离子铣刻蚀系统的原理：
氩气在辉光放电原理的作用下被分解为氩离子，氩离子通过阳极电场的加速物理轰击样品表面来使得刻蚀的作用达到。往离子源放电室充入氩气并且使其电离使得等离子体形成，然后通过栅极引出离子呈束状并且加速，往工作室进入一定能量的离子束，往固体表面射向对固体表面原子进行轰击，使材料原子发生溅射，使刻蚀目的达到，属于纯物理刻蚀。
离子铣刻蚀系统的技术指标：
各种金属以及氧化物等复杂体系的刻蚀等为离子束刻蚀系统的主要应用，在物理，生物，化学，材料，电子等领域得到了非常广泛的应用。
装片：一片6英寸，向下兼容任意规格样品
极限真空：8.5e-5帕(45分钟从atm抽至5e-4帕)
基底冷却温度：5-25摄氏度
样品台旋转：自转9rpm，倾斜0-90度
离子能量：100-650电子伏特
束流密度：0.2-0.7毫安/平方厘米
刻蚀均匀性：±5%(4英寸)
离子铣刻蚀系统的主要用途：
物理刻蚀的方式为离子束刻蚀系统所采用，任何材料各向异性的刻蚀经过电场加速的离子束能够实现，并且能够按照倾角不同对侧壁形貌进行调整与使被溅射材料的再沉积污染减少。
