• 产品名称:进口晶圆清洗机

    产品型号:

    产品报价:

    产品特点:进口晶圆清洗机:Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。

    进口晶圆清洗机的详细资料:

    进口晶圆清洗机应用:

    • 带图案或不带图案的掩模版和晶圆片
    • Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗
    • CMP处理后的晶圆片清洗
    • 晶圆框架上的切粒芯片清洗
    • 等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗
    • 带保护膜的分划版清洗
    • 掩模版空白部位或接触部位清洗
    • X射线及极紫外掩模版清洗
    • 光学镜头清洗
    • ITO涂覆的显示面板清洗
    • 兆声辅助的剥离工艺

    进口晶圆清洗机的特点:

    • 台式系统
    • 无损兆声掩模版或晶圆片清洗及旋转甩干
    • 支持12”直径的圆片或9”x9”方片
    • 微处理机自动控制
    • IR红外灯

    选配项:

    • 掩模版或晶圆片夹具
    • PVA软毛刷清洗
    • 化学试剂清洗(CDU)
    • 氮气离子发生器

     

    概述:

    zui新技术的兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了zui新的水平,可以帮助用户获得zui干净的晶圆片和掩模版。

    NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统,用于的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片,包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到zui优化的清洗效果,兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面,通过分布能量的zui大化支持zui理想的清洗,同时保证在样片的损伤阈值范围内。

    SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力,这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统,可以zui大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力,提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。

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