• 进口掩模板清洗机先进的清洗技术成为了一款理想设备
    点击次数:2145 发布时间:2015-09-22
       进口掩模板清洗机是一款带有小占地面积的理想设备,并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力,并可用于非常广泛的基片。提供了可控的化学试剂滴胶能力,这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统,可以zui大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力,提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。

    进口掩模板清洗机技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面,通过分布能量的zui大化支持zui理想的清洗,同时保证在样片的损伤阈值范围内。

      进口掩模板清洗机通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术,系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升,从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去,而把回附的数量降到了zui低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势,zui先进的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附,并且因此需要更多的去除这些颗粒。

      进口掩模板清洗机还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除,而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用,某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。
      
    进口掩模板清洗机特点:
      台式系统
      无损兆声掩模版或晶圆片清洗及旋转甩干
      支持12”直径的圆片或9”x9”方片
      微处理机自动控制
      IR红外灯
      
    进口掩模板清洗机应用:
      带图案或不带图案的掩模版和晶圆片
      Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗
      CMP处理后的晶圆片清洗
      晶圆框架上的切粒芯片清洗
      等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗
      带保护膜的分划版清洗
      掩模版空白部位或接触部位清洗
      X射线及极紫外掩模版清洗
      光学镜头清洗
      ITO涂覆的显示面板清洗
      兆声辅助的剥离工艺



    进口掩模板清洗机
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