• 刻蚀机湿法刻蚀相对于等离子刻蚀反应离子刻蚀一体机的缺点
    点击次数:1516 发布时间:2015-09-07
       等离子刻蚀反应离子刻蚀一体机又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀,是干法刻蚀中zui常见的一种形式,其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体,由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体,从而形成了等离子或离子,电离气体原子通过电场加速时,会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。某种程度来讲,等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况。进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反应室。气体被导入并与等离子体进行交换。等离子体在工件表面发生反应,反应的挥发性副产物被真空泵抽走。等离子体刻蚀工艺实际上便是一种反应性等离子工艺。近期的发展是在反应室的内部安装成搁架形式,这种设计的是富有弹性的,用户可以移去架子来配置合适的等离子体的蚀刻方法:反应性等离子体(RIE),顺流等离子体(downstream),直接等离子体(direction plasma)。

      等离子刻蚀反应离子刻蚀一体机的应用
      等离子体清除浮渣
      光阻材料剥离
      表面处理
      各向异性和各向同性失效分析应用
      包装清洗
      钝化层蚀刻
      聚亚酰胺蚀刻
      增强粘接力
      生物医学应用
      聚合反应
      混合物清洗
      预结合清洗

      刻蚀机湿法刻蚀相对于等离子刻蚀反应离子刻蚀一体机的缺点
      1. 硅片水平运行,机片高(等离子刻蚀去PSG槽式浸泡甩干,硅片受冲击小);
      2. 下料吸笔易污染硅片(等离子刻蚀去PSG后甩干);
      3. 传动滚抽易变形(PVDF,PP材质且水平放置易变形);
      4. 成本高(化学品刻蚀代替等离子刻蚀成本增加)。
      此外,有些等离子刻蚀机,如SCE等离子刻蚀机还具备“绿色”优势:无氟氯化碳和污水、操作和环境安全、排除有毒和腐蚀性的液体。SCE等离子刻蚀机支持以下四种平面等离子体处理模式:
      直接模式——基片可以直接放置在电极托架或是底座托架上,以获得zui大的平面刻蚀效果。
      定向模式——需要非等向性刻蚀(anisotropic etching)的基片可以放置在特制的平面托架上。
      下游模式——基片可以放置在不带电托架上,以便取得微小的等离子体效果。
      定制模式——当平面刻蚀配置不过理想时,特制的电极配置可以提供。


    等离子刻蚀反应离子刻蚀一体机
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