热真空试验箱是目前环境试验设备行业中zui热门的试验设备之一,而林频仪器的设备也以的环境试验设备和可靠性环境试验解决方案成为行业中的*。但是再好的设备如果使用不当或缺少保养也会出现各种故障,今天就和各位来讲讲热真空试验箱在使用中有可能会出现哪些故障以及解决方案吧。热真空试验箱技术规格1、真空干燥箱是专为干燥热敏性、易分解和易氧化物质而设计的,工作时可使工作室内保持一定的真空度,并能够向内部充入惰性气体,特别是一些成分复杂的物品也能进行快速干燥,采用智能型数字温度调节仪进行温度...

热真空试验箱是在地面上模拟太空环境的环境模拟试验设备。近几年来,热真空试验设备在航天航空业产品的研制和定型中发挥了重要作用。热真空试验箱由于结构复杂,在运行中有时会出现一些异常现象,如果不能及时排除,将延长试验周期,影响产品的研制工作。为此,我们对热真空试验箱的基本工作原理作一些简要阐述,并介绍如何对热真空试验箱的一般故障进行分析判断和排除。1、热真空试验箱工作原理下面以和热真空试验箱为例简要介绍其工作过程。试验箱由主泵涡轮分子泵、机械泵、预抽阀、主抽阀等组成真空机组,对真空...

光学镀膜设备原理磁控溅射系统在阴极靶材的背后放置100～1000Gauss强力磁铁,真空室充入011～10Pa压力的惰性气体(Ar),作为气体放电的载体。光学镀膜设备在高压作用下Ar原子电离成为Ar+离子和电子,电子在加速飞向基片的过程中,受到垂直于电场的磁场影响,使电子产生偏转,被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内,电子以摆线的方式沿着靶表面前进,在运动过程中不断与Ar原子发生碰撞,电离出大量的Ar+离子，经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低,摆脱磁力线的束缚,zui终落在基片、...

硅片清洗机物理清洗有三种方法：①刷洗或擦洗:可除去颗粒污染和大多数粘在片子上的薄膜。②高压清洗：是用液体喷射片子表面，喷嘴的压力高达几百个大气压。高压清洗靠喷射作用，片子不易产生划痕和损伤。但高压喷射会产生静电作用，靠调节喷嘴到片子的距离、角度或加入防静电剂加以避免。③超声波清洗：超声波声能传入溶液,靠气蚀作用洗掉片子上的污染。但是,从有图形的片子上除去小于1微米颗粒则比较困难。将频率提高到超高频频段，清洗效果更好。硅片清洗机发展展望：伴随着硅片的大直径化,器件结构的超微小化...

微波等离子清洗机技术的zui大特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。经济的发展，人们的生活水平不断提高，对消费品的质量要求也越来越高，等离子技术随之逐步进入生活消费品生产行业中；另外，科技的不断发展，各种技术问题的不断提出，新材料的不断涌现，越来越多的科研机构已认识到等离子技术的重要性，并投入大量资金进行技术攻关，等离...

光学镀膜系统在这个阶段里要设计拟定出光学系统原理图，确定基本光学特性，使满足给定的技术要求，即确定放大倍率或焦距、线视场或角视视场、数值孔径或相对孔径、共轭距、后工作距离光阑位置和外形尺寸等。因此，常把这个阶段称为外形尺寸计算。一般都按理想光学系统的理论和计算公式进行外形尺寸计算。在计算时一定要考虑机械结构和电气系统，以防止在机构结构上无法实现。每项性能的确定一定要合理，过高要求会使设计结果复杂造成浪费，过低要求会使设计不符合要求，因此这一步骤慎重行事。无论是无机材料还是有机...

随着NANO-MASTER*技术的ICP源的深入应用，对于大面积的基片提供均匀高品质的薄膜生长得以实现。到目前为止，NANO-MASTER的ALD系统可以支持在任意尺寸的衬底上的扩展，这给显示和照明等领域带来好消息。此外，NANO-MASTER同时具备粉末处理能力的扩展。这样，NANO-MASTER系统已经可以支持在任意尺寸和任意形状的固体上进行原子级生长。在应用选择方面，我们支持热ALD和PEALD系统的单独应用，同时也支持ALE/ALD双系统、IBE/ALD双系统、ALD...

微波等离子清洗机产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电场，用真空泵实现一定的真空度，随着气体愈来愈稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长，受电场作用，微波等离子清洗机发生碰撞而形成等离子体，这些离子的活性很高，其能量足以破坏几乎所有的化学键，在任何暴露的表面引起化学反应，不同气体的等离子体具有不同的化学性能，如氧气的等离子体具有很高的氧化性，能氧化光刻胶反应生成气体，从而达到清洗的效果；腐蚀性气体的等离子体具有很好的各向异性，这样就能满足刻蚀的需要。微...