微波等离子去胶清洗机是石英腔的微波等离子系统，可以安装到超净间墙上。该系列的微波等离子系统可以用于批处理，也可以作为单片处理，系统为计算机全自动控制的系统。典型工艺包含：大剂量离子注入后的光刻胶去除；干法刻蚀工艺的前处理或后处理；MEMS制造中的牺牲层去除。下面为大家介绍微波等离子去胶清洗机使用中的四大影响因素，希望对大家有所帮助。一、调整合适的频率：频率越高，氧越容易电离形成等离子体。如果频率过高，使电子振幅短于其平均自由程，电子与气体分子碰撞的概率就会降低，导致电离率降低...

离子铣刻蚀系统是利用离子束轰击固体表面的溅射作用，剥离加工各种几何图形，通过大面积离子源产生的离子束，可对固体材料溅射刻蚀，对固体器件进行微细加工。离子铣刻蚀系统的原理：氩气在辉光放电原理的作用下被分解为氩离子，氩离子通过阳极电场的加速物理轰击样品表面来使得刻蚀的作用达到。往离子源放电室充入氩气并且使其电离使得等离子体形成，然后通过栅极引出离子呈束状并且加速，往工作室进入一定能量的离子束，往固体表面射向对固体表面原子进行轰击，使材料原子发生溅射，使刻蚀目的达到，属于纯物理刻蚀...

兆声清洗机不仅保存了超声波清洗的优点，而且克服了它的不足。在清洗时，由换能器发出波长为1μm频率为0.8兆赫的高能声波。溶液分子在这种声波的推动下作加速运动，最大瞬时速度可达到30cm/s。因此，形成不了超声波清洗那样的气泡,而只能以高速的流体波连续冲击晶片表面,使硅片表面附着的污染物的细小微粒被强制除去并进入到清洗液中。兆声清洗机的操作规程：1、遵守铸造设备通用操作规程。2、工作前还必须遵守：a、检查管路系统有无漏气漏水的情况，如有这种情况，应通知维修人员修理。b、检查清洗...

ICP刻蚀机是带ICP等离子源和偏压样品台的高速刻蚀系统，系统可以达到高速率、低损伤、高深宽比的刻蚀效果。可实现范围广泛的刻蚀工艺，包括刻蚀III-V化合物(如GaAs，InP，GaN，InSb)、II-VI化合物、介质材料、玻璃、石英、金属，以及硅和硅的化合物(如SiO2、Si3N4、SiC、SiGe)等。ICP刻蚀机的工作原理：感应耦合等离子体刻蚀法(InductivelyCoupledPlasmaEtch，简称ICPE)是化学过程和物理过程共同作用的结果。它的基本原理是...

硅片清洗机可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的z大化支持z理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。硅片清洗机应用：带图案或不带图案的掩模版和晶圆片Ge,GaAs以及InP晶圆片清洗CMP处理后的晶圆片清洗晶圆框架上的切粒芯片清洗等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗带保...

进口光学镀膜机主要用途及应用范围：主要用于镀制增透膜、带通膜和截止膜等各种膜系，能够实现100层膜的超大型膜系镀膜，也能满足在树脂镜片上镀制各种颜色的增透膜以及在太阳镜片上镀制红、黄、蓝、绿等颜色的反光膜，适用于大批量镀各种高质量的光学膜和铝膜,还适用于装饰品的镀膜，如七彩等颜色。进口光学镀膜机产品优点及特点：►配置电子束及电阻蒸发系统；►电子枪在整个蒸发过程中膜料表面平整，蒸发分布均匀；►配置石英晶体膜厚控制仪可实现成膜速度和镀膜过程的自动控制；►配置大功率离子源，保证膜层...

掩模板清洗机是一款带有小占地面积的理想设备，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统，可以zui大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。掩模板清洗机技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的大化支持理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围...

热真空试验箱测试系统，用于极真空及可控均匀的加热和冷却循环套件下测试器件或样品。该系统具有计算机控制、安全连锁，以及多级密码授权访问保护的功能。它可以用于超过24小时的圈子全自动热、冷循环情况下测试器件/样品，温度条件通过程序定义。该系统通常的应用之一是太空模拟。热真空试验箱腔体的大致尺寸为：直径24"，长度43"。带有一个16"x32"的滑动加热平，可以冷却到零下100摄氏度。热真空平台也可以加热到150摄氏度，具有高度的均匀度。在去边3cm后整个平台的温度均匀度可达/-1...