RIE刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。某种程度来讲，等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况。RIE刻蚀机的原理与激光打标机相同，即通过高能量的激光光束照射到材料表面使其瞬间气化...

热真空试验箱是在地面上模拟太空环境的环境模拟试验设备。近几年来，热真空试验设备在航天航空业产品的研制和定型中发挥了重要作用。热真空试验箱由于结构复杂，在运行中有时会出现一些异常现象，如果不能及时排除，将延长试验周期，影响产品的研制工作。为此，我们对试验箱的基本工作原理作一些简要阐述，并介绍如何对热真空试验箱的一般故障进行分析判断和排除。断开制冷控制，制冷阀关闭，检查真空计通讯接口有无松动，分子泵转速有无发生变化，经检查都正常，说明真空机组的问题可以排除由于低温降温阶段出现真空...

热真空试验箱是在地面上模拟太空环境的环境模拟试验设备。近几年来，热真空试验设备在航天航空业产品的研制和定型中发挥了重要作用。热真空试验箱由于结构复杂，在运行中有时会出现一些异常现象，如果不能及时排除，将延长试验周期，影响产品的研制工作。为此，我们对试验箱的基本工作原理作一些简要阐述，并介绍如何对热真空试验箱的一般故障进行分析判断和排除。断开制冷控制，制冷阀关闭，检查真空计通讯接口有无松动，分子泵转速有无发生变化，经检查都正常，说明真空机组的问题可以排除由于低温降温阶段出现真空...

硅片清洗机技术的特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。在所有的清洗方式中，进口晶圆清洗机是效率高、效果的一种，之所以超声波清洗能够达到如此的效果，是与它*的工作原理和清洗方法密切相关的。我们知道，在生产和生活当中，需要清洁的东西很多，硅片清洗机需要清洗的种类和环节也很多，如：物件的清除污染物，疏通细小孔洞，常见的手工清...

热真空试验箱是在地面上模拟太空环境的环境模拟试验设备。近几年来，热真空试验设备在航天航空业产品的研制和定型中发挥了重要作用。热真空试验箱由于结构复杂，在运行中有时会出现一些异常现象，如果不能及时排除，将延长试验周期，影响产品的研制工作。为此，我们对试验箱的基本工作原理作一些简要阐述，并介绍如何对热真空试验箱的一般故障进行分析判断和排除。热真空试验箱对故障现象的分析诊断与排除（1）断开制冷控制，制冷阀关闭检查真空计通讯接口有无松动，分子泵转速有无发生变化，经检查都正常，说明真空...

在所有的清洗方式中，进口晶圆清洗机是效率zui高、效果的一种，之所以超声波清洗能够达到如此的效果，是与它*的工作原理和清洗方法密切相关的。我们知道，在生产和生活当中，需要清洁的东西很多，进口晶圆清洗机需要清洗的种类和环节也很多，如：物件的清除污染物，疏通细小孔洞，常见的手工清洗方法对异型物件以及物件隐蔽处无疑无法达到要求，即使是蒸汽清洗和高压水射流清洗也无法满足对清洁度较高的需求，超声波清洗对物件还能达到杀灭细菌、溶解有机污染物、防止过腐蚀等，因此，进口晶圆清洗机被日益广泛应...

一般的热真空试验箱均设有温度均匀度参数：自然对流式的干燥箱为工作温度上限乘3%，强制对流式的干燥箱为工作温度上限乘2.5%。惟独电热真空干燥箱不设温度均匀度参数，这是为什么？真空干燥箱内依靠气体分子运动使工作室温度达到均匀的可能性几乎已经没有了。因此，从概念上我们就不能再把通常电热（鼓风）干燥箱所规定的温度均匀度定义用到真空干燥箱上来。热真空试验箱注意事项1、仪器外壳必须有效接地，以保证使用安全。2、仪器应放在通风良好的室内水平位置，在其周围不可放置易燃易爆物品。3、应在供电...

RIE-PE刻蚀机是基于真空中的高频激励而产生的辉光放电将四氟化碳中的氟离子电离出来从而获得化学活性微粒与被刻蚀材料起化学反应产生辉发性物质进行刻蚀的。同时为了保证氟离子的浓度和刻蚀速度必须加入一定比例的氧气生成二氧化碳。RIE-PE刻蚀机主要对太阳能电池片周边的P—N结进行刻蚀，使太阳能电池片周边呈开路状态。也可用于半导体工艺中多晶硅，氮化硅的刻蚀和去胶。刻蚀精度主要是用保真度、选择比、均匀性等参数来衡量。所谓保真度度，就是要求把光刻胶的图形转移到其下的薄膜上,即希望只刻蚀...