• 进口晶圆清洗机日常使用中的保养工作

    点击次数:896 发布时间:2018-10-29

       在所有的清洗方式中,进口晶圆清洗机是效率zui高、效果的一种,之所以超声波清洗能够达到如此的效果,是与它独特的工作原理和清洗方法密切相关的。我们知道,在生产和生活当中,需要清洁的东西很多,进口晶圆清洗机需要清洗的种类和环节也很多,如:物件的清除污染物,疏通细小孔洞,常见的手工清洗方法对异型物件以及物件隐蔽处无疑无法达到要求,即使是蒸汽清洗和高压水射流清洗也无法满足对清洁度较高的需求,超声波清洗对物件还能达到杀灭细菌、溶解有机污染物、防止过腐蚀等,因此,进口晶圆清洗机被日益广泛应用于各行各业:
     
      1、机械行业:防锈油脂的去除;量具的清洗;机械零部件的除油除锈;发动机、化油器及汽车零件的清洗;过滤器、滤网的疏通清洗等。
     
      2、表面处理行业:电镀前的除油除锈;离子镀前清洗;磷化处理;清除积炭;清除氧化皮;清除抛光膏;金属工件表面活化处理等。
     
      3、仪器仪表行业:精密零件的高清洁度装配前的清洗等。
     
      4、电子行业:印刷线路板除松香、焊斑;高压触点等机械电子零件的清洗等。
     
      5、医疗行业:医疗器械的清洗、消毒、杀菌、实验器皿的清洗等。
     
      6、半导体行业:半导体晶片的高清洁度清洗。
     
      7、钟表首、饰行业:清除油泥、灰尘、氧化层、抛光膏等。
     
      8、化学、生物行业:实验器皿的清洗、除垢。
     
      9、光学行业:光学器件的除油、除汗、清灰等。
     
      10、纺织印染行业:清洗纺织锭子、喷丝板等。
     
      11、石油化工行业:金属滤网的清洗疏通、化工容器、交换器的清洗等。
     
      如何保养晶圆清洗机?保养晶圆清洗机的方法有哪些?保养晶圆清洗机注意事项有哪些?下面就由小编为大家总结了一些使用经验,希望能对大家在养护时得到帮助。
     
      进口晶圆清洗机日常维护:
     
      1、冲洗接入清洁剂的软管和过滤器,去除任何洗涤剂的残留物以助于防止腐蚀;
     
      2、关断连接到清洗机上的供水系统;
     
      3、扣动伺服喷枪杆上的扳机可以将软管里全部压力释放掉;
     
      4、从清洗机上卸下橡胶软管和高压软管;
     
      5、切断火花塞的连接导线以确保发动机不会启动(适用于发动机型)。
     
      电动型:
     
      将电源开关转到‘开’和‘关’的位置四到五次每次1-3秒以清除泵里的水。这一步骤将有助于保护泵免受损坏。
     
      发动机型:
     
      缓慢地拉动发动机的启动绳5次来清除泵里的水。这一步骤将有助于保护泵免受损坏。
     
      定期维护---每2个月维护一次
     
      1、定期从贮油箱里清除燃料沉淀物将延长发动机的使用寿命和性能。燃料的沉淀物会导致对燃料管道,燃料过滤器和化油器的损坏;
     
      2、当不使用高压清洗机时用凯驰泵的防护套件来保护你的高压清洗机。泵的防护套间是特别用来保护高压清洗机防止受腐蚀,过早磨损和冻结等。并且要给阀和密封圈涂上润滑剂,防止它们卡住。
     
      进口晶圆清洗机电动型:
     
      1、关闭晶圆清洗机;
     
      2、将高压软管和伺服喷枪杆与泵断开连接;
     
      3、将阀接在泵防护罐上并打开阀;
     
      4、启动打开清洗机,将罐中所有物质吸入泵里;
     
      5、关闭清洗机,现在高压清洗机可以直接贮存。
     
      发动机型:
     
      1、关闭晶圆清洗机;
     
      2、将高压软管和伺服喷枪杆与泵断开连接;
     
      3、将阀接在泵防护罐上并打开阀;
     
      4、点火,拉动启动绳,将罐中所有物质吸入泵里;
     
      5、现在晶圆清洗机可以直接贮存。
     
      晶圆清洗机应用范围
     
      1、炉前清洗:扩散前清洗。
     
      2、光刻后清洗:除去光刻胶。
     
      3、氧化前自动清洗:氧化前去掉硅片表面所有的沾污物。
     
      4、抛光后自动清洗:除去切、磨、抛的沾污。
     
      5、外延前清洗:除去埋层扩散后的SiO2及表面污物。
     
      6、合金前、表面钝化前清洗:除去铝布线后,表面杂质及光胶残渣。
     
      7、离子注入后的清洗:除去光刻胶,SiO2层。
     
      8、扩散预淀积后清洗:除去预淀积时的BSG和PSG。
     
      9、CVD后清洗:除去CVD过程中的颗粒。
     
      10、附件及工具的清洗:除去表面所有的沾污物
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