NMC-4000(M)MOCVD设备概述：NANO-MASTER针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5x10-7Torr极限真空)、PC全自动控制，*的安全互锁。目前，这项技术延伸到5个4"晶圆的立柜式独立批处理系统，该系统可以集成...

进口ALD设备原子层沉积是一项沉积薄膜的重要技术，具有广泛的应用。ALD原子层沉积可以满足膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积，这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响，所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性，可以提供优异的薄膜性能。ALD原子层工艺也可以实现到大基片上。进口ALD设备特点：占地面积小计算机控制，Labview软件全自动工艺控制360A厚的...

兆声清洗机是以高频(850kHz)振效应并结合化学清洗剂的化学反应对硅片进行清洗为原理的清洗设备。兆声清洗机不仅保存了超声波清洗的优点，而且克服了它的不足。在清洗时，由换能器发出波长为1μm频率为0.8兆赫的高能声波。溶液分子在这种声波的推动下作加速运动，大瞬时速度可达到30cm/s。因此，形成不了超声波清洗那样的气泡,而只能以高速的流体波连续冲击晶片表面,使硅片表面附着的污染物的细小微粒被强制除去并进入到清洗液中。兆声清洗机操作规程：1、遵守铸造设备通用操作规程。2、工作前...

ICP刻蚀机是带ICP等离子源和偏压样品台的高速刻蚀系统，系统可以达到高速率、低损伤、高深宽比的刻蚀效果。可实现范围广泛的刻蚀工艺，包括刻蚀III-V化合物（如GaAs，InP，GaN，InSb）、II-VI化合物、介质材料、玻璃、石英、金属，以及硅和硅的化合物（如SiO2、Si3N4、SiC、SiGe）等。ICP刻蚀机主要特点：基于PC控制的立柜式百级ICP-RIE刻蚀系统，拥有快速的刻蚀能力；配套LabView软件，菜单驱动，自动记录数据；触摸屏监控；全自动系统，带安全联...

微波等离子化学气相沉积系统能够沉积高质量的SiO2,Si3N4,或DLC薄膜到z大可达6”直径的基片上.该系统采用淋浴头电极或中空阴极射频等离子源来产生等离子，具有分形气流分布的优势.样品台可以通过RF或脉冲DC产生偏压。并可以支持加热和循环冷却水的冷却.使用250l/sec涡轮分子泵及3.5cfm的机械泵，腔体可以达到低至10-7torr的真空。标准配置包含1路惰性气体、3路活性气体管路和4个MFC.带有*气体分布系统的平面中空阴极等离子源使得系统可以满足广大范围的要求，无...

金属有机化学气相沉积系统是纳米制造领域的一项著名技术，在大规模集成电路、绝缘材料、磁性材料、光电子材料领域有着*的重要地位。通过利用气相间的反应，它能将蒸发的反应物沉积在表面形成薄膜，比如说石墨烯就是CVD广为认知的产物，但目前看来，制备薄膜半导体材料也是它受重视的应用之一。金属有机化学气相沉积系统的原理：CVD的研究始于十九世纪末，主要用于重要材料的合成和制备。若想知道CVD是如何制造特定薄膜的，那就得先了解它的原理。CVD属于“自下而上”的纳米制造技术，其原理是把含有构成...

光学镀膜系统是在一个腔体中实现原子级清洗和光学样片抛光，然后把样片传送到第二级腔体中对同一样片进行表面涂覆，整个过程不间断真空。系统的设计也可以支持其中任一个腔体的单独使用，同时具备各自的自动上/下载片功能。简单的光学薄膜模型是表面光滑、各向同性的均匀介质薄层。在这种情况下，可以用光的干涉理论来研究光学薄膜的光学性质。当一束单色平面波入射到光学薄膜上时，在它的两个表面上发生多次反射和折射，反射光和折射光的方向由反射定律和折射定律给出，反射光和折射光的振幅大小则由菲涅耳公式确定...

空间环境模拟试验设备，用于极真空及可控均匀的加热和冷却循环套件下测试器件或样品。该系统具有计算机控制、安全连锁，以及多级密码授权访问保护的功能。它可以用于超过24小时的圈子全自动热、冷循环情况下测试器件/样品，温度条件通过程序定义。该系统z通常的应用之一是太空模拟。空间环境模拟试验设备腔体的大致尺寸为：直径24"，长度43"。带有一个16"x32"的滑动加热平，可以冷却到零下100摄氏度。热真空平台也可以加热到150摄氏度，具有高度的均匀度。在去边3cm后整个平台的温度均匀度...