• 北京理工大学RIE-PECVD顺利安装验收
    点击次数:1211 发布时间:2017-09-12


    今年7月,北京理工的RIE-PECVD顺利安装验收。这套设备是Nano-Master极富特色的双系统设备,一套设备中实现反应离子刻蚀工艺,同时具备等离子增强化学气相沉积的工艺能力,既避免客户担心的交叉污染问题,又为实验室节省了宝贵的空间和预算,是大学院校和科研机构的热门选择。

    NANO-MASTER(那诺-马斯特) PECVD系统能够沉积高质量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到zui大可达12” 直径的基片上,可以通过不同配置实现高速沉积,或控制氮化物薄膜应力,或支持CNT和石墨烯生长。主要型号包含NPE-3000,NPE-3500,和NPE-4000。同时,NANO MASTER(那诺-马斯特)提供的全自动RIE系统主要用于刻蚀氧化物、氮化物和金属,可以根据需要配置ICP实现快速深刻,DRIE系统可用于深硅刻蚀。主要型号包含NRE-3000,NRE-3500,NRE-4000,NDR-4000。 如果用户同时有RIE和PECVD的需求,我们可以提供双系统方案以节省空间和预算。

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