等离子体增强MOCVD也就是大名鼎鼎的MOCVD(金属有机物化学气相沉积),针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有加热的气体管路、5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、950度样品台三个气体环、PC全自动控制、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5x10-7Torr极限真空)，*的安全互锁。
等离子体增强MOCVD技术特点：
台式系统
5个带独立冷却槽的起泡器
加热的气体管路
950°C样品台，2"晶圆片
3个气体环
RF等离子源，带淋浴头气体分布
工艺完成后N2自动冲洗
极限真空5x10-7Torr
250l/s的涡轮分子泵串接无油干泵
通过LabView软件实现PC计算机全自动控制
菜单驱动，4级密码访问控制
完整的安全联锁
等离子体增强MOCVD配置：
独立系统
14"不锈钢立方体腔体
1次在8"样品台上处理1个6"晶圆片或在12"样品台上处理5片4"片子
加热的气体管路
RF等离子源，自动调谐
淋浴头气体分布
1100°C的旋转样品台
