• 3分钟带你详细了解等离子体增强MOCVD的技术特点和配置
    点击次数:235 发布时间:2021-05-14

        等离子体增强MOCVD也就是大名鼎鼎的MOCVD(金属有机物化学气相沉积),针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有加热的气体管路、5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、950度样品台三个气体环、PC全自动控制、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5x10-7Torr极限真空),完全的安全互锁。

        等离子体增强MOCVD技术特点:

        台式系统

        5个带独立冷却槽的起泡器

        加热的气体管路

        950°C样品台,2"晶圆片

        3个气体环

        RF等离子源,带淋浴头气体分布

        工艺完成后N2自动冲洗

        极限真空5x10-7Torr

        250l/s的涡轮分子泵串接无油干泵

        通过LabView软件实现PC计算机全自动控制

        菜单驱动,4级密码访问控制

        完整的安全联锁

        等离子体增强MOCVD配置:

        独立系统

        14"不锈钢立方体腔体

        1次在8"样品台上处理1个6"晶圆片或在12"样品台上处理5片4"片子

        加热的气体管路

        RF等离子源,自动调谐

        淋浴头气体分布

        1100°C的旋转样品台
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