微波等离子清洗机优势：一、清洗对象经微波等离子清洗机之后是干燥的，不需要再经干燥处理即可送往下一道工序。可以提高整个工艺流水线的处理效率。二、微波等离子清洗机使得用户可以远离有害溶剂对人体的伤害，同时也避免了湿法清洗中容易洗坏清洗对象的问题；三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶剂，这样清洗后不会产生有害污染物，因此这种清洗方法属于环保的绿色清洗方法。这在高度关注环保的情况下越发显出它的重要性。四、微波等离子清洗机采用无线电波范围的高频产生的等离子体与激光等直射光线不同。等离子体...

RIE-PE刻蚀机其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。RIE-PE刻蚀机是在湿法腐蚀技术基础上发展起来的，属于纯化学性腐蚀。这种方法腐蚀均匀性好、损伤小，缺点是各向刻蚀同性，对于1μm以下的细线条线宽损失明显。所以，在等离子刻蚀的基础上改进反应结构和接电方式，出现了反应离子刻蚀。该方法加快了纵向的腐蚀速度，具有各向异性的腐蚀...

无论是无机材料还是有机材料制成的眼镜片，在日常的使用中，由于与灰尘或砂砾（氧化硅）的摩擦都会造成镜片磨损，在镜片表面产生划痕。与玻璃片相比，有机材料制成的硬性度比较低，更易产生划痕。通过显微镜，我们可以观察到镜片表面的划痕主要分为二种，一是由于砂砾产生的划痕，浅而细小，戴镜者不容易察觉；另一种是由较大砂砾产生的划痕，深且周边粗糙，处于中心区域则会影响视力。1、*代光学镀膜系统技术抗磨损膜始于20世纪70年代初，当时认为玻璃镜片不易磨制是因为其硬度高，而有机镜片则太软所以容易磨...

任何一种光学仪器的用途和使用条件必然会对它的光学系统提出一定的要求，因此，在我们进行光学设计之前一定要了解对光学镀膜系统的要求。这些要求概括起来有以下几个方面。一、光学系统的基本特性：数值孔径或相对孔径；线视场或视场角；系统的放大率或焦距。此外还有与这些基本特性有关的一些特性参数，如光瞳的大小和位置、后工作距离、共轭距等。二、系统的外形尺寸：光学镀膜系统的外形尺寸，即系统的横向尺寸和纵向尺寸。在设计多光组的复杂光学系统时，外形尺寸计算以及各光组之间光瞳的衔接都是很重要的。三、...

光学镀膜系统是改变光学零件表面特征而镀在光学零件表面上的一层或多层膜。可以是金属膜、介质膜或这两类膜的组合。光学薄膜是各种先进光电技术中*的一部分，它不仅能改善系统性能，而且是满足设计目标的必要手段，光学薄膜的应用领域设及光学系统的各个方面，包括激光系统，光通信，光显示，光储存等，主要的光学薄膜器件包括反射膜、减反射膜、偏振膜、干涉滤光片和分光镜等等。下面就由小编具体为大家介绍分析光学镀膜系统的基础知识，以作为参考希望能够帮助到大家。光学镀膜系统的定义是：涉及光在传播路径过程...

进口双模式刻蚀机全自动上下载片，带低温晶圆片冷却和偏压样品台的深硅刻蚀系统，带8"ICP源。系统可以配套500L/S抽速的涡轮分子泵，可以使得工艺压力达到几mTorr的水平。在低温刻蚀的技术下，系统可以达到硅片的高深宽比刻蚀。进口双模式刻蚀机主要特点：基于PC控制的紧凑型立柜式百级DRIE深硅刻蚀系统，拥有高纵横比的刻蚀能力；配套LabView软件，菜单驱动，自动记录数据；触摸屏监控；全自动系统，带安全联锁；四级权限，带密码保护；自动上下载片；带LoadLock预真空锁；He...

全自动磁控溅射系统是物理气相沉积（PhysicalVaporDeposition，PVD）的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，而上世纪70年代发展起来的全自动磁控溅射系统法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。全自动磁控溅射系统通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。全自动磁控溅射系统技术分类直流溅射法要求...

镀膜是用物理或化学的方法在材料表面镀上一层透明的电解质膜，或镀一层金属膜，目的是改变材料表面的反射和透射特性。在可见光和红外线波段范围内，大多数金属的反射率都可达到78%~98%，但不可高于98%。无论是对于CO2激光，采用铜、钼、硅、锗等来制作反射镜，采用锗、砷化镓、硒化锌作为输出窗口和透射光学元件材料，还是对于YAG激光采用普通光学玻璃作为反射镜、输出镜和透射光学元件材料，都不能达到全反射镜的99%以上要求。不同应用时输出镜有不同透过率的要求，因此必须采用光学镀膜方法。对...