• 硅片清洗机的技术资料简述
    点击次数:117 发布时间:2020-01-03
         硅片清洗机不仅保留了超声波清洗的优点,而且克服了超声波清洗的缺点。兆声无损清洗机的工作原理是利用高能(850kHz)频率效应和化学清洗剂的化学反应对硅片进行清洗。在清洗过程中,换能器发出的高能声波波长为1 m,频率为0.8 MHZ。在声波的驱动下,溶液的分子运动得更快。瞬时速度可达30cm/s。因此,无法形成超声清洗等气泡。相反,硅片清洗机只能用高速的流体波不断地冲击晶圆片表面,迫使附着在晶圆片表面的微小污染物颗粒被去除并进入清洗溶液中。
     
        经济的发展,人们的生活水平不断提高,对消费品的质量要求也越来越高,等离子技术随之逐步进入生活消费品生产行业中;另外,科技的不断发展,各种技术问题的不断提出,新材料的不断涌现,越来越多的科研机构已认识到等离子技术的重要性,硅片清洗机并投入大量资金进行技术攻关,等离子技术在其中发挥了非常大的作用。我们深信等离子技术应用范围会越来越广;技术的成熟,成本的降低,其应用会更加普及。
     
        硅片清洗机的机理,主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。就反应机理来看,等离子体清洗通常包括以下过程:无机气体被激发为等离子态;气相物质被吸附在固体表面;被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子;产物分子解析形成气相;反应残余物脱离表面。
     
        硅片清洗机有三种方法:
     
        ①刷洗或擦洗:可除去颗粒污染和大多数粘在片子上的薄膜。
     
        ②高压清洗:是用液体喷射片子表面,喷嘴的压力高达几百个大气压。高压清洗靠喷射作用,片子不易产生划痕和损伤。但高压喷射会产生静电作用,靠调节喷嘴到片子的距离、角度或加入防静电剂加以避免。
     
        ③超声波清洗:超声波声能传入溶液,靠气蚀作用洗掉片子上的污染。但是,从有图形的片子上除去小于 1微米颗粒则比较困难。将频率提高到超高频频段,清洗效果更好。
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