掩模板清洗机产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电场，用真空泵实现一定的真空度，随着气体愈来愈稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长，受电场作用，微波等离子清洗机发生碰撞而形成等离子体，这些离子的活性很高，其能量足以破坏几乎所有的化学键，在任何暴露的表面引起化学反应，不同气体的等离子体具有不同的化学性能，如氧气的等离子体具有很高的氧化性，能氧化光刻胶反应生成气体，从而达到清洗的效果；腐蚀性气体的等离子体具有很好的各向异性，这样就能满足刻蚀的需要。微波等离子清洗机利用等离子处理时会发出辉光，故称之为辉光放电处理。
掩模板清洗机的应用：
1.带图案或不带图案的掩模版和晶圆片
2.Ge,GaAs以及InP晶圆片清洗
3.CMP处理后的晶圆片清洗
4.晶圆框架上的切粒芯片清洗
5.等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗
6.带保护膜的分划版清洗
7.掩模版空白部位或接触部位清洗
8.X射线及极紫外掩模版清洗
9.光学镜头清洗
10.ITO涂覆的显示面板清洗
11.兆声辅助的剥离工艺
掩模板清洗机还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除，而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用，某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。
