• 掩模板清洗机工作原理状况分析简述
    点击次数:703 发布时间:2018-11-13
       掩模板清洗机产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电场,用真空泵实现一定的真空度,随着气体愈来愈稀薄,分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长,受电场作用,微波等离子清洗机发生碰撞而形成等离子体,这些离子的活性很高,其能量足以破坏几乎所有的化学键,在任何暴露的表面引起化学反应,不同气体的等离子体具有不同的化学性能,如氧气的等离子体具有很高的氧化性,能氧化光刻胶反应生成气体,从而达到清洗的效果;腐蚀性气体的等离子体具有很好的各向异性,这样就能满足刻蚀的需要。微波等离子清洗机利用等离子处理时会发出辉光,故称之为辉光放电处理。
     
      掩模板清洗机也叫等离子表面处理仪,是一种全新的高科技技术,利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态,也叫做物质的第四态。微波等离子清洗机对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括:离子、电子、活性基团、激发态的核素、光子等。等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,从而实现清洁等目的。
     
      等离子体和固体、液体或气体一样,是物质的一种状态,也叫做物质的第四态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的"活性"组分包括:离子、电子、活性基团、激发态的核素、光子等。等离子体表面处理仪就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。
     
      掩模板清洗机原理:
     
      清洗机是物质的一种存在状态,通常物质以固态、液态、气态三种状态存在,但在一些特殊的情况下有第四种状态存在,如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质:处于高速运动状态的电子;处于激活状态的中性原子、分子、原子团;离子化的原子、分子;未反应的分子、原子等,但物质在总体上仍保持电中性状态。
     
      在真空腔体里,通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体,通过等体子体轰被清洗产品面。以达到清洗目的。
     
      我们在长期从事等离子体应用技术研究和设备研制的基础上,充分借鉴欧美的先进技术,并通过与国内外着名研究机构的技术合作,微波等离子清洗机开发出具有自主知识产权的电容耦合放电、电感耦合放电和远区等离子放电等多种放电类型的产品。特色鲜明的处理腔体形状和电极结构可以满足不同形状、不同材质的表面处理要求,包括薄膜、织物、零件、粉体和颗粒等。
     
      掩模板清洗机的等离子技术在橡塑行业的应用已非常成熟,其相关产值逐年增加,国外市场比国内市场产值高,但国内可发展空间大,应用前景诱人。
     
      经济的发展,人们的生活水平不断提高,对消费品的质量要求也越来越高,等离子技术随之逐步进入生活消费品生产行业中;另外,科技的不断发展,各种技术问题的不断提出,新材料的不断涌现,越来越多的科研机构已认识到等离子技术的重要性,并投入大量资金进行技术攻关,等离子技术在其中发挥了非常大的作用。我们深信等离子技术应用范围会越来越广;技术的成熟,成本的降低,其应用会更加普及。
     
      微波等离子清洗机的机理,主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。就反应机理来看,等离子体清洗通常包括以下过程:无机气体被激发为等离子态;气相物质被吸附在固体表面;被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子;产物分子解析形成气相;反应残余物脱离表面。
     
      掩模板清洗机技术的特点是不分处理对象的基材类型,均可进行处理,对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理,并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。
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